CdTe薄膜太阳电池的结构示意图如图8.3所示。其制作过程是先将透明导电氧化物膜(Transparent Conducting Oxide:TCO)沉积在玻璃衬底上,然后分别依次制备n型CdS、p型CdTe与背接触(back contact)金属电极。TCO的制备方法通常为真空溅射、电子束蒸发、化学气相沉积法等,常用的TCO材料组分有ITO,ZnO:Al,ZnO:B,SnO:F等。但由于In为稀有贵金属元素,且在高温沉积CdTe的过程中,In元素会扩散至CdS/CdTe内,会恶化PN结的性能。因此ZnO基的TCO膜尤其是ZnO:Al在CdTe薄膜太阳电池中占有重要地位。
CdTe薄膜太阳电池的n型窗口材料通常可为CdSe,ZnO,CdS等,其中CdS与 CdTe的结构相近,晶格常数和热膨胀系数差异小,因此,最适合作为窗口层(window layer)材料,高效率的CdTe太阳电池的PN结都是n-CdS/p-CdTe结构。其中,CdS薄膜厚度通常在100nm以下,常采用化学水浴(Chemical Bath Deposition:CBD)、电化学沉积和丝网印刷等方法制备。目前世界最高效率的CdTe太阳电池的n型材料就是采用CBD方法制备的,关于化学水浴法原理与工艺在8.3.5节中有详细介绍。(www.xing528.com)
CdTe吸收层的质量严重影响着电池转换效率,比较成熟的CdTe薄膜制备方法有近空间升华法(CSS)、电化学沉积(ECD)。CdTe膜层在电池结构中厚度一般为3μm左右,通过改进工艺方法可以进一步减薄到1μm以下,可以节约成本。通常CdTe薄膜需要在CdCl2气氛中400℃进行30min左右的退火处理(annealing treatment),以提高CdTe薄膜的性能[7~9]。退火处理后的CdTe薄膜晶粒尺寸增大,同时促进了CdS/CdTe界面的混合晶化[7],由于Cl的掺杂提高了CdS施主浓度[10],由VCd-ClTe缺陷对的形成提高了CdTe薄膜的受主浓度[11],经CdCl2退火处理后的CdTe太阳电池性能有很大改善[12]。
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