电磁散射理论表明，根据目标散射特性的不同可以将电磁波频率划分为三个区域：(1)瑞利区：目标在垂直于波阵面方向的尺寸远小于入射波长，此时入射波沿着散射体基本没有相位变化，在每一个时刻可以等效于静场问题，雷达截面正比于频率的四次方；(2)谐振区：目标在垂直于波阵面方向的尺寸与入射波长在同一数量级，此时目标上各点入射场的相位变化显著，散射体各部分间相互作用的总效果决定了最终的电流密度，因此，谐振区雷达回波携带散射体形状与大小的近似信息；(3)光学区：又称高频区，目标在垂直于波阵面方向的尺寸远大于入射波长，此时散射体各部分之间的相互影响已变得很小，散射成为局部现象而不再是累积的过程，表面电流积分的主要贡献来自于驻相点和积分端点，散射也就可以认为是主要来自于这些为数不多的离散点，称为目标的散射中心。散射中心是雷达目标在光学区等效的散射源，它的概念来自于对散射过程的数学分析，同时也与高分辨雷达观测结果一致。1976年，M.E.Bechtel对目标的局部散射源进行了较为完整的概括，按照对应结构的不同将散射中心分为五大类，下面沿用这种分类并综合各个阶段不同学者的研究成果对主要的散射中心类型做简单介绍。
(1)镜面散射型：平板、单曲面和双曲面都能产生镜面型散射中心。其中，平板对应的散射中心具有很强的方向性，法向的散射强度远远大于其他方向；单曲面形散射体在纵切面内具有很强的方向性，而在横切面内散射图均匀；双曲面形散射体的方向图很宽。后两种散射结构对应的散射中心位置随观测视角而变化，是典型的滑动型散射中心。
(2)边缘散射中心：包括一阶边缘(如棱)、二阶边缘(指一阶导数连续、二阶导数不连续的形体，如锥球体的半球和锥体接合部)。文献将这类结构称为部分连接散射点，它们的位置也随观测视角沿某些与目标轮廓有关的空间曲线滑动。
(3)多次反射型：分成非色散型多次反射结构和腔体结构，前者包括角型结构和大的腔体(电尺寸远大于雷达波长)，它们在横向上的位置通常位于整个反射链路上的第一个面元和最后一个面元之间，纵向位置则由整个反射链路的总长度决定，并且该多次反射结构形成的所有射线具有相同的纵向和横向位置，因此，非色散型多次散射结构在雷达图像上表现为一个点散射中心，但这个点散射中心的散射强度和位置随观测方向改变而改变。不同于前面两种滑动型散射中心的是，它的位置改变可能是不连续的。当腔体结构的任何一维尺寸与雷达波长同量级时，它成为一个显著的色散型散射结构，其相位特性随频率而变化，因此造成纵向图像的模糊。
(4)尖顶型：光滑表面的微小凸出亦属此类。当姿态角变化时，它在目标上的具体位置固定，因此，分析这些散射中心的位移可以推断目标绕质心的运动特性。这类散射中心的散射能量通常与频率成平方反比关系，在光学区的散射要弱于前几类散射中心，但它的方向图较宽，是目标最主要的稳定点散射中心。
(5)行波和爬行波产生的散射中心：它们也具有色散性，并且在高频区的散射强度通常都比较低。它们的散射机理不能被高频近似方法描述，因此不能通过高频电磁计算数据研究这类散射中心的特征。(www.xing528.com)
综合上述情况，得到整个目标散射场的表达式
其中，M为散射中心的个数，Am为第m个散射中心的系数，幂指数αm为类型参数，它与散射结构的对应关系如表5-4所示。
表5-4 典型的散射结构对应的类型参数
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