到目前为止,我们只阐述了一维的自适应采样和插值算法,用于加速任意目标的单站RCS计算。当既要扫描俯仰角,又要扫描方位角时,就需要设计新的算法,用于二维角度扫描的情形。与一维自适应采样和插值类似,二维角度扫描的算法也包括两部分:插值算法和自适应策略。
插值算法采用双三次样条插值,下面我们从三次样条插值算法出发,用两个不同方向的三次样条插值的流程来实现二维三次样条插值,即双三次样条[81]。顾名思义,双三次样条就是在两个方向分别用三次样条插值算法,下面推导双三次样条插值的计算流程。首先,对于某个二维区域,我们进行采样(等间隔和不等间隔均可),计算采样点的函数值,θ和φ方向的采样个数分别为m和n,采样点为(θ0,φ0),(θ1,φ1),…,(θi,φj),…,(θm,φn)。其次,对φ方向,利用三次样条插值计算m条随φ变化的曲线f(θi,φ),并保存下来。再次,确定需要计算函数值的点(θ,φ),选取上一步计算结果f(θi,φ),利用三次样条插值计算函数值f(θ,φ)。最后,计算二维区域中的每一个点的函数值,得到最后的二维结果。整个过程就是标准的双三次样条插值的过程。
确定了插值方法之后,下面是整个算法最重要的一步,即双自适应采样。在这里,同样是基于一维自适应采样的原理的一个推广。如图3-11所示,我们用一个递推的过程来实现双自适应采样。
图3-11 双自适应采样示意图
第一步:对于尚未划分子区域的二维区域Φ0,在θ方向上选择一个新的采样点,即对f(θ1,φj)和f(θ2,φj),j=1,2,分别用直线模型和三次多项式模型进行匹配,得到两条误差曲线,然后选取这两条误差曲线中平均误差最大的点的位置,作为下一个θ方向采样点的位置;在φ方向上选择一个新的采样点,即对f(θi,φ1)和f(θi,φ2),i=1,2,分别用直线模型和三次多项式模型进行匹配,得到两条误差曲线,然后选取这两条误差曲线中平均误差最大的点的位置,作为下一个φ方向采样点的位置。经过两个方向的选择之后,原区域划分为四个新的子区域Φ1。
第二步:对Φn中的每个子区域,分别采用第一步相同的做法,得到θ和φ方向新的采样点,生成新的子区域Φn+1,…。
第三步,对Φn+1中的每个子区域,判断是否需要增加新的采样点,如果需要,则跳至第二步;否则,自适应采样过程结束。
第四步,根据自适应采样获得的采样信息,对整个区域进行插值,得到二维函数f(θ,φ)的估计值。
利用双自适应采样和插值算法,可以避免逐点计算带来的计算时间上的负担,又可以灵活地选择采样点的最佳个数和位置,从而可以快速地分析任意目标的二维单站RCS。下面利用几个数值算例来说明双自适应采样和插值的效果(如图3-12所示)。入射波选择为平面波,扫描范围均为俯仰角0°~180°和方位角0°~180°。
图3-12 NASA Almond单站散射,频率5 GHz,θθ极化,俯仰角0°~180°,方位角0°~180°
(a)直接计算结果;(b)自适应插值计算结果;(c)相对误差;(d)采样点分布
通过RCS的对比,可以看出直接计算和自适应采样算法的结果几乎一样,为了更加准确地说明自适应采样的精度,在RCS结果图之后还给出了相对误差的二维图[如图3-12(c)]。相对误差均保持在1%之内,因此,自适应采样的精度是可以满足需要的。最后还给出了自适应采样算法选择的采样点的分布图[如图3-12(d)],从图中可以发现,变化剧烈的部分取点比较密集,而变化缓慢的部分取点比较稀疏,这与实际情况是相符的。后面的例子同样可以得出相同的结论。(www.xing528.com)
图3-13 金属Ogive单站散射,频率8 GHz,θθ极化,俯仰角0°~180°,方位角0°~180°
(a)直接计算结果;(b)自适应插值计算结果;(c)相对误差;(d)采样点分布
图3-14 金属Double-Ogive单站散射,频率12 GHz,θθ极化,俯仰角0°~180°,方位角0°~180°
(a)直接计算结果;(b)自适应插值计算结果;(c)相对误差;(d)采样点分布
由于用到了相对误差的概念,为了避免歧义,因此,这里对相对误差做一个简要的定义。在所有算例中,相对误差定义为散射电场的相对误差
其中,Eapprox为利用插值方法估计的散射场,Edirect为直接求解方程得到的精确的散射场,|Edirect|max表示直接计算得到的散射场中的最大值。从插值结果和相对误差可以看出,自适应插值算法可以准确地获取任意目标的二维RCS扫描结果。下面给出自适应采样的采样点选择的结果,以及计算时间的分析。从计算时间的比较可以发现,自适应采样算法极大地降低了单站RCS扫描的计算时间。
表3-3 算例NASA almond,Ogive和Double-Ogive插值计算与非插值计算时间的对比(时间:s)
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