【摘要】：图2.1.5细导线与等离子体射流接触时的射流照片；外加电压Vapp、距离喷嘴1.5cm处的射流电压Vplume-1.5cm和距离喷嘴3.5cm处的射流电压Vplume-3.5cm随时间的变化波形；射流推进速度的空间分布[2]图2.1.6电荷法测量N-APPJ推进速度的实验装置示意图[2]使用ICCD测量子弹推进速度的方法如图2.1.8所示。这也是许多研究团队普遍采用测量等离子体子弹速度的方法。为了对其动态过程有更清晰的认识，图2.1.9给出了等离子体射流速度随时间的变化情况。
图2.1.5 （a）细导线与等离子体射流接触时的射流照片；（b）外加电压Vapp、距离喷嘴1.5cm处的射流电压Vplume-1.5cm和距离喷嘴3.5cm处的射流电压Vplume-3.5cm随时间的变化波形；（c）射流推进速度的空间分布[2]
图2.1.6 电荷法测量N-APPJ推进速度的实验装置示意图[2]
使用ICCD测量子弹推进速度的方法如图2.1.8所示。这也是许多研究团队普遍采用测量等离子体子弹速度的方法。图2.1.9（a）给出了等离子体射流的动态过程图，从图中可以清晰地看出等离子体射流实际是由等离子体子弹快速推进形成的。为了对其动态过程有更清晰的认识，图2.1.9（b）给出了等离子体射流速度随时间的变化情况。从图中可以看出，射流喷出管口时先加速，到达峰值速度约为85km/s，然后开始减小，这一现象与电压法测量的结果是一致的，但是峰值速度比电压法的高约30%。(www.xing528.com)
图2.1.7 外加电压Vapp、距离喷嘴1.0cm处射流电流Iplume-1.0cm和距离喷嘴3.0cm处射流电流Iplume-3.0cm随时间的变化情况[2]
图2.1.8 ICCD法和光谱法测量推进速度的实验装置示意图[2]
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