在高强度脉冲激光辐射的作用下,半导体价带中的电子可以通过多光子吸收而被激发至导带,并同时在价带中产生出相应的空穴。被激发的电子可在导带内移动,而空穴可在价带内移动,两者在外加直流电场作用下都会对材料电导率的增加有所贡献。图15-9(a)为用来实现把电子从价带被激发至导带的3种可能方式:①同时吸收两个频率相同的入射光子(简并双光子吸收);②同时吸收两个频率不同的光子(非简并双光子吸收);③同时吸收3个相同的入射光子(简并三光子吸收)。在这些情况下,假定了任何单个入射光子能量均小于带隙能量(Eg),而同时吸收的多光子能量之和大于Eg。对同时吸收m个光子的过程来说,对入射光子的能量要求为
图15-9 在半导体内通过双光子与三光子吸收而激发的电子跃迁
(a)以及测量多光子诱导光电导性的实验装置(b)
用于测试多光子光电导特性的一种典型实验设置如图15-9(b)所示,它包括3个基本部分:①短或超短脉冲激光源;②半导体样品与测试电路;③适当的用于测量和记录电导率变化的系统。
半导体样品中由双光子吸收(2PA)引起的入射光强减少量为[参见式(14-43)]
式中,β为样品材料的2PA系数。实际上有I0βl0<<1成立,从而上式可简化为
因此由双光子激发引起的光电流变化量可表示为
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在通过三光子吸收进行激发的情况下,入射光强的减少量为[参见式(14-46)]
式中,γ为材料的三光子吸收(3PA)系数。在实际的三光子激发实验中,通常有<<1,从而有
由此,相应的光电流变化可写为
类似的,在更多个(m)光子激发作用下,诱导光电流变化量与入射激光光强应有以下的非线性关系式成立:
实际上,通过测量给定样品光电导变化作为入射光强的函数,就可确定对实验结果有主要贡献的多光子激发机制对应的m值。
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