激光技术的出现,开启了研究多光子光电发射与光电导效应的新领域。人们发现,在高强度激光入射作用下,即使其波长远长于材料的“红限”波长,亦可以通过多光子激发(吸收)过程(参见第14章)而产生光电发射信号或光电导感应变化。此情况下,所测得样品的光电反应,不再与入射光强成简单的线性关系。以多光子激发的光电发射为例,所产生的光电流Icur与入射激光峰值光强I0之间有下述关系式成立:
式中,m为激发一个光电子发射所需要同时吸收的多光子数目。如图15-3所示,对于多光子激发光电子发射的基元过程而言,能量守恒要求入射光子的能量满足条件:
而如下的额外能量
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将变成被发射的自由电子的动能。这里Δ代表该电子占据的初始能级至费米能级的间距。由于处于费米能级之下电子的初始能级可以有连续的分布,因此即使对具有一定光子能量hv的单色入射激光而言,仍可观察到发射电子在真空中的连续动能分布。
图15-3 单光子(a)、双光子(b)和三光子(c)激发的光电子发射跃迁
利用合适波长的脉冲激光入射,最早在商用光电管和光电倍增管(PMT)中观察到多光子光电发射效应。例如,1964年,曾利用具Cs3 Sb光阴极光电倍增管,以1.06 μm的脉冲激光(hv=1.17 eV)入射,观察到双光子激发的光电发射[4]。此外,还曾在具有以钠(φ=2.3 eV)真空蒸镀制作光电阴极的PMT内,以波长为840 nm的脉冲激光(hv=1.48 eV)辐照,也观测到双光子激发的光电发射[5]。此两种情况下,均发现到光电流对激光强度的平方依赖性。
稍后,采用以金制作为光电阴极(φ=4.8 eV)的PMT并以694.3 nm的脉冲激光(hv=1.79 eV)入射,观察到三光子激发光电发射[6]。到了20世纪70年代,研究人员报道了利用锁模1064 nm脉冲激光辐照钨(φ=4.49 eV)阴极表面,观测到四光子激发光电发射[7]。进而,以脉冲宽度为30 ps的1 064 nm激光辐照1 mm厚的金阴极,还观测到五光子激发的光电发射[8]。所有这些早期的研究结果,基本证实了由式(15-8)表述的光电流对入射光强的非线性关系[4~9]。
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