由于本节实验中所用N-APPJ的放电参数、工作气体及射流装置喷嘴与液面的距离均和6.4节相同，因此放电过程中的电压、电流波形及等离子体辐射光谱的结果此处不再重复，具体可参见图6.4.2和图6.4.3。
图6.5.3 L02细胞经过不同时间的等离子体射流处理后对应的流式分析结果图片[62]
L02细胞在用N-APPJ进行第一轮直接处理再继续培养24h后典型流式分析结果图片如图6.5.3所示，图中Q1、Q2、Q3和Q4区域分别代表坏死细胞、早期凋亡细胞、晚期凋亡细胞和存活细胞。可以看到凋亡细胞百分比（Q1+Q2）随着N-APPJ处理时间的增加而明显增加。应该注意到，当处理时间过长时，坏死细胞的比例会显著增大。例如，当处理时间为30min时，坏死细胞占全部细胞的比例已经达到19.9%。因此，死亡细胞（包括凋亡和坏死）的百分比能够更准确地反映等离子射流对L02细胞的真正损伤。等离子体射流处理后24h和48h死亡细胞百分比（Q1+Q2+Q3）如图6.5.4所示。可以看到，48h后细胞的死亡率和24h后死亡率相比有明显的增加，这可能是细胞死亡的滞后效应导致的。
图6.5.4 等离子体射流处理不同时间后24h和48hL02死亡细胞百分比[62]
n.s.表示无显著性差异， **P＜0.01（与24h后对应对照组比较），## P＜0.01（与48h后对应对照组比较）
为了确认N-APPJ是否会对L02细胞造成遗传学损伤，利用微核试验得到了N-APPJ直接处理不同时间后L02细胞的微核率。图6.5.5（a）为微核试验中利用Giemsa染液染色后得到的典型的带有微核的双核L02细胞图片，可以看到在细胞核的周围出现了明显的微核。图6.5.5（b）所示的是不同处理时间下L02细胞具体的微核率。可以看到，正常情况下L02 细胞的微核率在11.3‰左右；当处理时间为0.5 min时，细胞微核率与对照组相比无显著变化；随着处理时间继续增大，处理后的细胞微核率逐渐增大，处理时间为1min、5min、10 min、20 min 和30 min 时，对应的L02 细胞微核率依次为21.7‰、49‰、70.7‰、117.7‰和152.3‰。这说明随着等离子体射流处理时间的增加，L02细胞的染色体等遗传物质受到了损伤。
进一步地，经过第一轮不同时间的N-APPJ处理后，L02细胞的HPRT 基因突变检测的结果如图6.5.6所示。(www.xing528.com)
图6.5.5 带有微核的双核L02细胞图片及N-APPJ处理不同时间后L02细胞微核率[62]
n.s.表示无显著性差异，*P＜0.01，** P＜0.01，均与对照组相比
由图6.5.6可知，L02细胞HPRT 基因的自然突变频率约为7×10-6，当处理时间为10min和30min时，HPRT 基因的突变频率有轻微的增加，但与自然突变频率相比仍没有显著性差异。在阳性对照组（5mmol/LEMS）中，可以看到L02细胞HPRT 基因的突变频率显著增加，达到了123×10-6。
图6.5.6 N-APPJ处理不同时间后L02细胞的HPRT 基因突变频率[62]
EMS作为阳性对照组，** P＜0.01，与对照组相比
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