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影响化学位移的因素-从《仪器分析》一书深入了解

时间:2023-10-30 理论教育 版权反馈
【摘要】:影响氢核化学位移的因素有内因和外因两方面情况。表5-5电负性基团的距离对氢核化学位移的影响2.共轭效应处于共轭体系中氢核,其化学位移情况比较复杂,主要来自两方面影响。羧酸由于形成强烈分子间氢键,其羧羟基氢化学位移很大。表5-7三个化合物形成氢键的化学位移影响因素分析5.磁各向异性效应磁各向异性效应是指氢核受邻近π键或共轭大π键基团的电子环流产生的感应次级磁场(ΔH)的作用。

影响化学位移的因素-从《仪器分析》一书深入了解

影响氢核化学位移的因素有内因和外因两方面情况。内因就是氢核所处的化学环境,主要从对氢核电子云密度(屏蔽常数)的影响,以及氢核所处的磁各向异性效应等方面考虑。对核外电子云密度的影响因素有诱导效应、共轭效应、杂化轨道s成分影响、氢键效应等,这种影响是通过成键电子传递的,而磁各向异性的影响是通过空间远程传递的。外部因素对非极性碳上质子影响不大,对活泼氢的影响较大。

设标准氢核与被测氢核的屏蔽常数分别为σs、σx,以扫频法测定它们的核磁共振频率分别为νs、νx。依据Larmor进动方程修正式(5-10),则有

将νs与Δν代入式(5-11),则有

从式(5-13)可知,磁核的化学位移值由其屏蔽常数σx所决定,与测定条件无关。凡是使氢核电子云密度降低的因素(σx减小),即减弱屏蔽效应,则使氢核的化学位移增大,共振吸收峰出现在低场、高频区(左端);反之,使氢核电子云密度增加的因素(σx增加),即增强屏蔽效应,则使氢核的化学位移减小,共振吸收峰出现在高场、低频区(右端)。

在NMR图谱中,质子的屏蔽常数σ与扫频法所需射频共振频率ν、扫场法所需共振磁场强度H,以及化学位移值δ之间的变化关系,如图5-14所示。

图5-14NMR中σ与ν、H及δ的变化关系图示

1.诱导效应

氢核上的碳连接有电负性基团,由于其吸电子诱导效应,使氢核的电子云密度降低,屏蔽作用减弱,化学位移增大。基团电负性越强,氢核的化学位移值越大,如一些甲烷取代物的化学位移情况,见表5-4。

表5-4 甲烷取代物的化学位移

由于碳的电负性大于氢,因此每当用烷基取代氢后,会使所有剩下的氢原子的化学位移移向低场,化学位移增大,即δCH3CH2CH

电负性基团离氢核越近诱导效应越明显,随着距离的增大下降很明显(表5-5)。

表5-5 电负性基团的距离对氢核化学位移的影响

2.共轭效应

处于共轭体系中氢核,其化学位移情况比较复杂,主要来自两方面影响。一是共轭体系中的碳核电子云密度发生改变,引起相连的氢核电子云密度发生改变,从而使氢核化学位移发生变化;二是共轭体系的氢核处于离域大π键电子环流产生的次级磁场的负屏蔽区(化合物1、2、3)。如果共轭体系中有电负性较大的吸电子基团(例如羰基),则使烯氢δ增大(化合物4、5、6);如果有供电子基团,则使烯氢δ减小(化合物7、8、9,—O—是供电子基团)。以上均是与乙烯氢核的化学位移5.28ppm相比较的情况。

3.杂化轨道s成分影响

碳原子杂化轨道中的s成分的多少,对氢核的化学位移有较大的影响,s成分增加,去屏蔽作用增强,化学位移增大(表5-6)。

表5-6 杂化轨道中s成分的影响

4.氢键去屏蔽效应

氢键可能在分子间或分子内生成。形成氢键时引起化学键的电子云密度再分布,使形成氢键的氢核周围电子云密度轻微降低,属于去屏蔽作用,使δ增大。形成氢键越强,活泼氢的化学位移就越大。

氢键的强度受溶剂的极性、溶液浓度和温度等因素影响,溶剂极性越大、样品浓度越高、测试温度越低,形成氢键的能力越强,活泼氢的化学位移值越大。羧酸由于形成强烈分子间氢键,其羧羟基氢化学位移很大。例如乙酸的羧羟基氢δ为11.42ppm,而柠檬酸分子中有三个羧基和一个醇羟基,分子间和分子内氢键都存在,其羧羟基氢δ是在11.5~13.2ppm的钝形宽峰。能够生成分子内氢键的化合物,其活泼氢的化学位移也相当大,例如2-乙酮-苯酚的酚羟基峰δ为12.25ppm,参见表5-7。

表5-7 三个化合物形成氢键的化学位移影响因素分析

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5.磁各向异性效应

磁各向异性效应是指氢核受邻近π键或共轭大π键基团的电子环流产生的感应次级磁场(ΔH)的作用。若次级磁场与外磁场同向作用于氢核,使吸收峰向低场、高频区移动,化学位移增大;若次级磁场与外磁场反向作用于氢核,使吸收峰向高场、低频区移动,化学位移降低。这种因感应次级磁场方向不同而作用不同的现象,称为磁各向异性效应。磁各向异性效应并不影响氢核的电子云密度,即氢核的σ不变。分析如下:

若氢核不处于感应次级磁场的作用范围,其核磁共振频率应为式(5-10)。

若氢核处于感应次级磁场(ΔH)的作用范围,有如下两种情况:

(1)若氢核处于感应次级磁场与外加磁场同向区域,称为负屏蔽区,氢核所受的磁场强度实际为H0+ΔH,其进动频率应为式(5-14)。

因氢核的σ不变,故其进动频率不变,这时所需外磁场强度H0要降低一些才能满足核磁共振条件,即吸收峰移向低场,化学位移增大。

(2)若氢核处于感应次级磁场与外加磁场反向区域,称为正屏蔽区,氢核所受的磁场强度实际为H0-ΔH,其进动频率应为式(5-15)。

因氢核的σ不变,故其进动频率不变,这时所需外磁场强度H0要增大一些才能满足核磁共振条件,即吸收峰移向高场,化学位移减小。

对于π键或共轭大π键电子,在外加磁场诱导下产生感应次级磁场的情况如下:

(1)双键双键的π电子云分布于成键平面的上下方,形成节面(Nodal Plane),在外加磁场诱导下形成电子环流,产生感应次级磁场。在垂直电子环流节面的中轴区域(节面环上下区域),次级磁场与外磁场方向相反,被称为正屏蔽区;在电子环流节面外沿区域,次级磁场与外磁场方向相同,被称为负屏蔽区。参见图5-15、图5-16。

丙醛的δCHO=9.793,因醛基氢处于次级磁场的负屏蔽,同时还受羰基氧的诱导作用,两种效应叠加,其化学位移比丙烯氢大许多。

图5-15 羰基的磁各向异性

图5-16 烯键的磁各向异性

(2)芳环 对于苯、轮烯、稠环及其它芳环的大π键,其离域电子云分布于环平面的上下方,形成比单个π键更大的节面,在外加磁场诱导下形成更大的电子环流,产生更强的感应次级磁场(图5-17)。在垂直芳环电子环流节面的中轴区域,次级磁场与外磁场方向相反,为正屏蔽区;在芳环电子环流节面外沿区域,次级磁场与外磁场相同方向,为负屏蔽区。因为芳环的感应次级磁场更强,导致芳环氢核的化学位移值更大一些。

图5-17 苯环的磁各向异性

图5-18 炔键的磁各向异性

以下是四个典型化合物的共轭大π键的磁各向异性效应对氢核化学位移影响情况。

(3)叁键叁键的π电子云节面垂直于键轴分布,在外加磁场诱导下形成绕键轴的电子环流,产生感应次级磁场(图5-18)。在垂直于电子环流节面的键轴方向,次级磁场与外磁场方向相反,为正屏蔽区;在电子环流节面外沿区域,次级磁场与外磁场方向相同,为负屏蔽区。

例如,乙炔取代菲三键最邻近氢核的δ为10.35,而菲中相应氢核的δ为8.65,说明处于三键负屏蔽区的该氢核吸收峰移向低场、高频区,化学位移增大了1.7。

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