免疫、成像、微纳尺度-其他分析方法

免疫分析：免疫分析是基于抗体和抗原特异性反应来测定各种抗原（或抗体）及半抗原以及能发生免疫反应的生物活性物质（蛋白质,激素,抗生物,药物,病原体,病毒）,具有非常高的选择性和灵敏度。利用放射性同位素I125作为标记物的方法被称为放射性免疫分析,通过测量免疫复合物中放射性强度来测定分析物的浓度,为了减少放射性污物对环境造成污染,非放射性免疫分析得到快速发展,利用荧光和化学发光物质标记抗原或抗体的荧光免疫分析、化学发光免疫分析、电化学发光免疫分析,以及酶作为标记物的酶免疫分析得到广泛应用,为了进一步适用临床、环境及食品等领域的实际需求,需要发展出超快速,多组分免疫分析方法。

成像分析：成像分析指以样品信息的二维（2D）、三维（3D）或四维（4D）分布图像来研究物质的形貌、组成、含量、结构和运动等特征。根据成像原理不同分为几种不同的成像模式,包括近场光学显微镜（SNOM）、光子扫描隧道显微镜（PSTM）、扫描隧道显微镜（STM）、原子力显微镜（AFM）、X 射线断层扫描（XCT）、扫描磁共振成像（MRI）、B 超、正电子发射计算机断层成像（PET）、单电子发射计算机断层成像（SPECT）、荧光成像（FI）、拉曼成像、表面等离子体共振成像和质谱成像等,每种成像均有其优点和不足,需要发展多模态成像技术,结合各自的优点,提高成像中的空间分辨率、灵敏度和速度。目前成像分析技术主要用于临床医学诊断,其他领域的应用尚待打开。(www.xing528.com)

微-纳尺度分析（μn-SA）：微-纳尺度分析指使用至少有一个维度尺寸在微米-纳米量级的装置所进行的分离分析。目前微-纳结构的加工或制备采用的技术包括光刻、离子束刻蚀、电子束刻蚀、模压、微接触印刷、打印、模板聚合和核辐射刻蚀等。其中,离子束刻蚀、电子束刻蚀和核辐射刻蚀特别适合于纳米结构加工。纳米孔可由纳米模板来构造,即将纳米模板混入溶液中,成膜后再除去模板。纳米颗粒、纳米线、纳米薄膜可用合成法得到。微-纳尺度分析可应用于样品成分的捕获富集、分离鉴定、反应标记、定性定量和测序解构等。纳米孔是微-纳分离中一个诱人的研究领域,它提供了一个适于在纳米尺度进行单分子测序、单分子传感、化学反应研究、生物分子识别等的研究平台。新的微-纳加工技术和芯片结构设计将推动微-纳尺度分析的发展。