1.光谱干扰研究试验溶液的配制
根据高温合金中各牌号的化学成分,配制了包括试剂空白溶液、基体元素溶液、共存元素溶液、分析元素溶液在内的光谱干扰研究单一试验溶液,各试验溶液的元素及其质量浓度见表16-1。
表16-1 光谱干扰试验溶液的元素及其质量浓度
2.各仪器光谱干扰试验及研究结果
(1)HJY公司的ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪上高温合金基体元素和共存元素对分析元素Ta的光谱干扰 将表16-1中的单一元素光谱干扰试验溶液、试剂空白溶液在HJY公司ACTI-VA型ICP-AES发射光谱仪上Ta四条分析谱线波长处进行图形扫描,积分时间1s,获得以分析波长为中心、波长范围为0.309nm的光谱扫描图形。将获得的光谱扫描图形进行适当叠加放大处理,进一步研究各基体元素和共存元素、试剂空白溶液在分析谱线附近的光谱干扰情况。所研究的高温合金各牌号的基体元素、共存元素及试剂对分析元素Ta的光谱干扰情况见表16-2。
表16-2 高温合金中基体元素、共存元素及试剂对Ta元素的光谱干扰(HJY ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪)
(续)
①Co元素对Ta此条谱线存在谱线干扰,干扰谱线为240.057nm。
②当高温合金中共存元素Cr质量浓度在0.1mg/mL以下时对Ta元素此分析谱线无光谱干扰,可以使用此分析谱线。
(2)PE OPTIMA 3300型ICP-AES发射光谱仪上高温合金基体元素和共存元素对分析元素Ta的光谱干扰 将表16-1中的单一元素光谱干扰试验溶液、试剂空白溶液在PE OPTIMA 3300型ICP-AES发射光谱仪Ta四条分析谱线波长处进行图形扫描,积分方式自动1~5s,获得以分析波长为中心、波长范围为0.108nm的光谱扫描图形。将获得的光谱扫描图形进行适当叠加放大处理,进一步研究各基体元素和共存元素、试剂空白溶液在分析谱线附近的光谱干扰情况。所研究的高温合金各牌号的基体元素、共存元素及试剂对分析元素Ta的光谱干扰情况见表16-3。
表16-3 高温合金中基体元素、共存元素及试剂对Ta元素的光谱干扰(PE OPTIMA型发射光谱仪)
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(续)
(3)Thermo IRIS IntrepidⅡ型ICP-AES发射光谱仪上高温合金基体元素和共存元素对分析元素Ta的光谱干扰 将表16-1中的单一元素光谱干扰试验溶液、试剂空白溶液在Thermo IRIS IntrepidⅡ型ICP-AES发射光谱仪Ta四条分析谱线波长处进行图形扫描,积分时间紫外区10s、可见光区5s,获得以分析波长为中心、波长范围为0.120nm的光谱扫描图形。将获得的光谱扫描图形进行适当叠加放大处理,进一步研究各基体元素和共存元素、试剂空白溶液在分析谱线附近的光谱干扰情况。所研究的高温合金各牌号的基体元素、共存元素及试剂对分析元素Ta的光谱干扰情况见表16-4。
表16-4 高温合金中基体元素、共存元素及试剂对Ta元素的光谱干扰(Thermo IRIS型发射光谱仪)
(续)
(续)
(4)各发射光谱仪对Ta元素的光谱干扰研究小结 将表16-2~表16-4中各型号发射光谱仪的光谱干扰情况进行总结,并结合高温合金中共存元素的最高含量,归纳出高温合金中Ta元素各分析谱线的光谱干扰结论,结果见表16-5。
表16-5 各发射光谱仪对Ta元素的光谱干扰研究小结
由表16-5可以看出,高温合金中基体元素和共存元素对谱线Ta263.558nm和Ta240.063nm的光谱干扰较小,因此应采用Ta263.558nm和Ta240.063nm进行镍基、铁镍基高温合金中Ta元素的测量,但应注意Fe基和高含量Mn、Mo元素的匹配。
HJY公司ULTIMAⅡC型ICP-AES发射光谱仪比HJY公司ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪分辨能力更强,且与HJY公司ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪相同,在160~450nm范围分辨率一致,因此适用于HJY ACTIVA ICP-AES的谱线均适用于HJY ULTIMAⅡC型仪器。
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