1.光谱干扰研究试验溶液的配制
根据高温合金中各牌号的化学成分,配制了包括试剂空白溶液、基体元素溶液、共存元素溶液、分析元素溶液在内的光谱干扰研究单一试验溶液,各试验溶液的元素及其质量浓度见表8-1。
表8-1 光谱干扰试验溶液的元素及其质量浓度
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2.各仪器光谱干扰试验及研究结果
(1)HJY公司的ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪上高温合金基体元素和共存元素对分析元素Cu的光谱干扰 将表8⁃1中的单一元素光谱干扰试验溶液、试剂空白溶液在HJY公司ACTI⁃VA型ICP-AES发射光谱仪上Cu三条分析谱线波长处进行图形扫描,积分时间1s,获得以分析波长为中心、波长范围为0.309nm的光谱扫描图形。将获得的光谱扫描图形进行适当叠加放大处理,进一步研究各基体元素和共存元素、试剂空白溶液在分析谱线附近的光谱干扰情况。所研究的高温合金各牌号的基体元素、共存元素及试剂对分析元素Cu的光谱干扰情况见表8⁃2。
表8⁃2高温合金中基体元素、共存元素及试剂对Cu元素的光谱干扰(HJY ACTIVA型仪器)
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①Co对Cu元素此条谱线存在谱线干扰,干扰谱线为Co327.399nm,当高温合金中共存元素Co质量浓度在0.1mg/mL以下时对Cu元素此分析谱线无光谱干扰,可以使用此分析谱线。
(2)PE OPTIMA 3300型ICP-AES发射光谱仪上高温合金基体元素和共存元素对分析元素Cu的光谱干扰 将表8-1中的单一元素光谱干扰试验溶液、试剂空白溶液在PE OPTI-MA 3300型ICP-AES发射光谱仪Cu三条分析谱线波长处进行图形扫描,积分方式自动1~5 s,获得以分析波长为中心、波长范围为0.108nm的光谱扫描图形。将获得的光谱扫描图形进行适当叠加放大处理,进一步研究各基体元素和共存元素、试剂空白溶液在分析谱线附近的光谱干扰情况。所研究的高温合金各牌号的基体元素、共存元素及试剂对分析元素Cu的光谱干扰情况见表8-3。
表8-3 高温合金中基体元素、共存元素及试剂对Cu元素的光谱干扰(PE OPTIMA型仪器)(www.xing528.com)
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(3)Thermo IRIS IntrepidⅡ型ICP-AES发射光谱仪上高温合金基体元素和共存元素对分析元素Cu的光谱干扰 将表8-1中的单一元素光谱干扰试验溶液、试剂空白溶液在Thermo IRIS IntrepidⅡ型ICP-AES发射光谱仪Cu三条分析谱线波长处进行图形扫描,积分时间紫外区10s、可见光区5s,获得以分析波长为中心、波长范围为0.120nm的光谱扫描图形。将获得的光谱扫描图形进行适当叠加放大处理,进一步研究各基体元素和共存元素、试剂空白溶液在分析谱线附近的光谱干扰情况。所研究的高温合金各牌号的基体元素、共存元素及试剂对分析元素Cu的光谱干扰情况见表8-4。
表8-4 高温合金中基体元素、共存元素及试剂对Cu元素的光谱干扰(Thermo IRIS型仪器)
(续)
(4)各仪器对Cu元素的光谱干扰研究小结 将表8-2~表8-4中各型号仪器的光谱干扰情况进行总结,并结合高温合金中共存元素的最高含量,归纳出高温合金中Cu元素各分析谱线的光谱干扰结论,结果见表8-5。
表8-5 各仪器对Cu元素的光谱干扰研究小结
由表8-5可以看出,在样品中Nb质量分数小于0.1%时,高温合金中基体元素和共存元素对谱线Cu324.754nm的光谱干扰较小,因此应采用Cu 324.754nm进行镍基、铁镍基高温合金中Cu元素的测量;在样品中Ta质量分数小于0.1%时,高温合金中基体元素和共存元素对谱线Cu 327.396nm的光谱干扰较小,因此应采用Cu 327.396nm进行镍基、铁镍基高温合金中Cu元素的测量。
HJY公司ULTIMAⅡC型ICP-AES发射光谱仪比HJY公司ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪分辨能力更强,且与HJY公司ACTIVA型ICP-AES发射光谱仪相同,在160~450nm范围分辨率一致,因此适用于HJY ACTIVA仪器的谱线均适用于HJY ULTIMAⅡC型仪器。
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