半导体探测器是一种工作在反向偏压下的p-n结二极管,实质上是一个介质为半导体材料的固体电离室,其工作原理与气体电离室相似。一个p型半导体与一个n型半导体紧密接触时,p区中的多数载流子(空穴)向空穴密度较小的n区扩散,同时电子由n区向p区扩散,电荷的分离导致“内建电场”的建立,方向为n→p,阻止这种扩散无限制地进行,直到建立平衡,形成p-n结。结区内的自由电子和空穴被电场收集,因此结区内没有载流子,形成耗尽层,电阻率可达1010Ω·cm。当半导体探测器工作在反向偏压时,外电场与内建电场方向一致,使耗尽层进一步加厚。当射线进入耗尽层,损耗的能量产生大量的电子-空穴对,在电场的作用下,分别向两极漂移,引起两极上感应电荷的变化,在输出回路形成脉冲信号。由于耗尽层的厚度很小,因此极间电场很强,电子和空穴的复合概率很小,输出脉冲幅度与射线损耗在耗尽层的能量成正比,所以半导体探测器可用于强度和能量的测量。
半导体探测器根据制造工艺的不同,可分为:①扩散结半导体探测器,如p型Si上扩散一层磷形成p-n结;②面垒型半导体探测器,如n型Si上镀一层Au或p型Si上镀一层Al膜,由于半导体和金属材料中费米能级的不同,在半导体中引起能带变化,具有p-n结的性质,是使用最广的探测器之一;③锂漂移型半导体探测器,主要用于β,X和γ射线的探测;④离子注入型半导体探测器,用约10keV的磷或硼离子分别注入p型或n型Si中,形成p-n结,结区宽度整齐,漏电流小;⑤外延型半导体探测器,利用外延方法形成p-n结,可用于制造全耗尽层ΔE探测器或ΔE-E一体化探测器及位置灵敏探测器,用于粒子鉴别和空间分布测量。
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图7-11 半导体探测器的工作原理图
1—入射粒子;2—p-n结(灵敏区);3—n型硅;4—p型硅;5—接放大器;R—负载电阻;C输入—输入电容;QQ——耗尽层中产生的电量
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