表5-4中的模型3用于验证政府力量、市场力量与企业专利产出之间的直接关系。从中可以看出,模型2的F值为2.489(p<0.001),表明在本研究所用的201家配对企业样本中,模型2的回归方程是有意义的。模型2调整后的R2为0.196,表明因变量19.6%的变动可以被模型中的自变量解释。而且,模型3中的R2比模型2中显著增加,说明政府力量、市场力量在对企业专利产出的解释上具有很强的作用。模型3的回归结果显示:政策支持对企业专利产出存在显著的正向影响(β=0.222,p<0.001),因而假设1得到支持;政治关系的一次项对企业专利产出影响不显著,二次项对企业专利产出存在着负向的影响(β=-0.181,p<0.05),证明政治关系对企业专利产出存在着倒U形的影响(Aiken和West,1991)[323],因而假设2得到支持;竞争强度对企业专利产出存在显著的正向影响(β=0.230,p<0.001),因而假设3得到支持;市场需求波动一次项对企业专利产出的影响基本不显著(β=-0.169,p>0.05),二次项对企业专利产出存在负向的影响(β=-0.153,p<0.05)(Aiken和West,1991),证明市场需求波动对企业专利产出存在着倒U形的影响,因此假设4得到支持。为了更好地阐释不同的政府力量和市场力量对企业专利产出的影响,本书进一步利用图示的方法予以说明(图5-1a,图5-1b,图5-1c,图5-1d)。为了避免多重共线性,我们在引入交互项时先将所有自变量进行了均值中心化处理,因此变量的取值范围为(1-均值,5-均值)。其中,政策支持的取值范围(-2.3,1.7),政治关系为(-2.93,1.07)竞争强度为(-2.84,1.16),市场需求波动为(-2.65,1.35)。
图5-1 a 政策支持对企业专利产出的直接效应
图5-1b 政治关系对企业专利产出的直接效应
图5-1 a阐释了政策支持对企业专利产出的直接效应。由图可以看出在随着政策支持水平的提高,企业专利产出值随之显著升高。并且由图可以看出政策支持对企业专利产出的正向影响维持不变。反映在图上就是,代表政策支持与企业专利产出的直线斜率不变。图5-1b阐释了政治关系对企业专利产出的直接效应。由图可以看出随着政治关系水平的升高,企业专利产出值先是随之上升;当达到某一个阈值时,企业专利产出的值达到最高;如果超过此临界值,随着政治关系水平的升高,企业专利产出的值则会随之降低。与图5-1a显著不同的是,政治关系对企业专利产出的影响是不断降低的。反映在图上就是,代表政治关系与企业专利产出的直线斜率不断降低,从最初的正值变为负值。因此,假设1和假设2得到充分支持。(www.xing528.com)
图5-1c阐释了竞争强度对企业专利产出的直接效应。由图可以看出在随着竞争强度水平的提高,企业专利产出值随之显著升高。并且由图可以看出竞争强度对企业专利产出的正向影响维持不变。反映在图上就是,代表竞争强度与企业专利产出的直线斜率不变。图5-1d阐释了市场需求波动对企业专利产出的直接效应。由图可以看出随着市场需求波动水平的升高,企业专利产出值先是随之上升;当达到某一个阈值时,企业专利产出的值达到最高;如果超过此临界值,随着市场需求波动水平的升高,企业专利产出的值则会随之降低。与图5-1a显著不同的是,市场需求波动对企业专利产出的影响是不断降低的。反映在图上就是,代表市场需求波动与企业专利产出的直线斜率不断降低,从最初的正值变为负值。因此,假设3和假设4得到充分支持。
图5-1 c 竞争强度对企业专利产出的直接效应
图5-1 d市场需求波动对企业专利产出的直接效应
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