高纯铟领域产业发展建议

基于高纯铟领域的专利定量和定性分析，可以得出以下结论：

（1）全球专利申请整体呈震荡上升的趋势，但近几年有下降的趋势，而我国的专利申请呈上升趋势，但未形成有利的专利壁垒

2011年中国专利申请数量超过日本等其他国家，成为专利申请数量最多的国家，原因是：涉及高纯铟的实用新型专利数量多，但是专利权相对稳定的发明专利数量少，从我国主要申请人的专利申请数量来看，我国各个企业及高校的专利申请量在10件左右，没有形成专利申请的垄断局面，我国作为铟资源的供应大国，没有专利的保驾护航，我国高纯铟产品想走出去也会举步维艰。

（2）我国高纯铟专利产出主要以原生铟提纯为主，而国外专利产出以再生铟的提纯回收为主(www.xing528.com)

高纯铟领域的专利申请数量排名第一的是广东省，其次是云南省、江苏省、湖南省、广西壮族自治区等。通过对各省的专利申请的定性分析，发现广东省、北京市在高纯铟领域的专利申请主要为再生铟的提纯方法及提纯装置方面，如从废ITO、IZO等靶材中提出高纯铟。云南省、湖南省在高纯铟领域的专利申请主要为真空蒸馏、电解精炼制备高纯铟的方法及装置等，其主要以原生铟为原料。广西壮族自治区主要申请方向为高纯铟生产线涉及装置，如真空感应熔炼用熔料装置、浇铸控流装置、电气控制及监控系统，其主要也是以原生铟为原料。从专利申请数量上来看，我国专利产出主要以原生铟提纯为主，再生铟的回收专利数量次之，总体来说，我国高纯铟领域的专利主要是围绕原生铟的二次提纯，如采用电解精炼法、真空蒸馏法或区域熔炼法对粗铟进行二次提纯，从而获得高纯的金属铟。而日本的专利主要布局在再生铟的提纯，如从ITO废料中通过酸浸、除杂、电解得到高纯铟，体现出对铟资源的重新利用技术上。我国作为铟的消费大国，从铟资源的长远发展战略考虑，在生产原生铟的同时，也要大力加强再生铟回收技术的研究与应用。

基于专利分析的结果，对高纯铟领域的发展提出一些应对建议：

我国是铟产品消费大国，消费产品主要是高端电子产品如液晶显示器等。铟的再生资源主要有ITO靶材废料、半导体切磨抛废料、半导体废器件、含铟合金加工废料、锗和硒整流器等。在目前全球铟矿资源匮乏的情况下，从含铟废料中提取回收再生铟已成为全球的共识，日本对铟的回收率已达到了70%。我国再生铟资源的回收利用研究起步较晚，尤其是利用含铟废料制备高纯铟的技术，该工艺流程长，且工艺复杂，研发难度大，投资费用高，对研究设备、仪器和人员素质要求也高，因此，建议组建国家级铟材料研究开发中心，集中优秀专业人员并积极引进国外人才和先进技术、设备，持久性、连续性和专业性地从事再生铟的提纯技术攻关，早日改变我国在再生铟制备高纯铟的技术和应用方面的落后状况，提高我国铟资源的利用率。