集成电路布图设计的法律保护措施

集成电路的布图设计，虽然一种图形设计，但又与专利法上的工业品外观设计不同，因此不能获得专利权。其区别在于：布图设计并不取决于集成电路的外观，而决定于集成电路中具有电子功能的每一元件的实际位置；另一方面，布图设计尽管需要高智力投入，但设计方案不会有很大改变。布图设计的主要目的在于提高集成度、节约材料、降低能耗。同时，集成电路技术无时无刻不在发展，其布图设计几乎不可能长时间保持不变，所以不适用专利保护。

另一方面，集成电路布图设计虽然是一种三维配置的图形设计，但也不是《著作权法》意义上的图形作品或者模型作品。其理由是：《著作权法》意义上的图形作品是由文字、图形或者符号等品素构成的，具有独创性的智力创作成果；而布图设计是由电子元件及其连线所组成的，执行着某种电子功能的形式，不表现任何思想，或者说其所表达的思想不具有任何意义。再从模型作品的角度看，布图设计是多个元件合理分布并相互关联的三维配置，是一种电子产品，不以其艺术性作为法律保护的条件，因此也不能作为模型作品受著作权法保护。

由于现有的《专利法》、《著作权法》都不适合于对集成电路提供保护，因此只好采用单行法，确认布图设计的专有权给予保护。美国是最先立法对布图设计进行保护的国家。1983年美国国会通过的《半导体芯片保护法》，虽然与美国《版权法》编放在一起，但实际上是一个独立的法律制度，并不属于版权法体系。它对布图设计的保护借鉴了版权法和专利法的有关规则和方法。1985年，日本颁布了《半导体集成电路的线路布局法》，这是对布图设计采用的一种新的保护制度，属于知识产权保护制度中的独立法律制度。继美国和日本之后，瑞典、英国、德国等国家也相继制定了自己的布图设计法。与此同时，国际组织也开始了对布图设计进行保护的研究，并通过缔结国际公约的形式，协调各国间的相关立法活动。1989年5月，世界知识产权组织在美国华盛顿召开了专门会议，并通过了《关于集成电路的知识产权条约》。该条约对布图设计的客体条件、保护的法律形式、缔约国之间的国民待遇、专有权保护范围、获权程序以及保护期限等作了具体规定。此外，《知识产权协议》专门规定了集成电路布图设计的保护，并要求各成员确认按照上述公约的有关规定对布图设计给予保护。(www.xing528.com)

尽管我国的集成电路产业还不十分发达，对集成电路布图设计保护的要求还不是非常强烈，但为了加入世界贸易组织，履行《知识产权协议》规定的义务，发展我国的集成电路产业，我国于2001年3月28日通过《集成电路布图设计保护条例》，于同年10月1日生效。