离子枪加工技术：喷射蚀刻和离子枪研磨

在离子加工中，归类于物理能量加工的有喷射蚀刻和离子枪研磨两种。离子加工也有采用物理化学的能量（后述）方式的。除此以外仅仅将上面两种离子加工总称为离子枪加工。

离子枪加工用Ar、Kr、Xe等惰性气体的离子作为工具进行除去加工。这个离子上有从几十电子伏开始到几十万电子伏[电子伏（eV）是电荷为e的离子，真空中电位差为1V的两点间被加速时获得的能量单位]的能量，和被加工物表面冲突，将其构成原子挤出去（这叫作飞溅）。因为进行原子单位的除去（当然是随机的）与加工单位的原理相符，并且

图2.19.5 溅射镀膜

不发热，可进行非常微细的高精度加工。换言之，加工速度非常得慢。

有喷射蚀刻（高频率等离子型）和离子枪研磨（离子喷淋型）两种方式，不同之处在于放电方式不同。喷射蚀刻用高频率（13.56MHz）放电产生离子（图2.19.5），离子枪研磨是由直流放电（图2.19.6）启动的。(www.xing528.com)

试探讨能量加工中成为精度问题的异方性。如图2.19.1b所示，IC（集成电路）生产时希望除去和被覆膜形状相同的下面部分。但是，实际上根据离子运动的异方性如图2.19.1a所示，把被覆膜的形状内侧也给削掉了（这叫作侧蚀）。这样的切削方法对材料的均一性有影响，抑制这个等方性到什么程度上才能够实现异方性，是实现加工精度的关键。

因此，IC加工还有一个重要之处是前压误差传达的原理，即为了实现高精度加工，必须提高前加工的覆膜精度。

图2.19.6 离子束铣床