【摘要】：放置式线圈是涡流检测使用最为广泛的一种线圈，在大多数情况下，由平线圈组成，用于检测平表面试样或表面曲率比较小的试件，也可以做成弯曲的，以便与试件的外形吻合。其他试验频率变化、试件电导率的变化及当试件厚度与涡流透入深度可比时试件厚度的变化等均可影响放置线圈的阻抗。图4.1-9表示试验频率、试件电导率、提离对放置线圈阻抗的影响。
放置式线圈（亦称探头式线圈）是涡流检测使用最为广泛的一种线圈，在大多数情况下，由平线圈组成，用于检测平表面试样或表面曲率比较小的试件，也可以做成弯曲的，以便与试件的外形吻合。影响放置线圈阻抗的因素主要有：
（1）提离效应（检测线圈与试件间距离的影响）当涡流线圈从非铁磁性导电体材料表面提起一距离时，线圈电流所产生的磁力线有一部分将不能到达试件，如果线圈远离试件表面，所产生的磁力线不再能达到试件，此时线圈的感抗等于空线圈感抗，这是在探测非铁磁性材料时所能获得的最高感抗值。反之，如果线圈接近试件表面，它的磁力线会与试件有更多的交联，在试件中感生出的涡流反抗着线圈磁场的变化，与激励线圈耦合的总的磁力线减少，线圈的自感和感抗因之减小，当线圈平面放置得与试件表面稳定接触时，可得减小的极限值。
（2）边缘效应当线圈移近试件边缘时，由于部分磁场落到试件外面会出现边缘效应，对于非磁性材料，对响应所产生的影响类似提高的影响。
（3）其他试验频率变化、试件电导率的变化及当试件厚度与涡流透入深度可比时试件厚度的变化等均可影响放置线圈的阻抗。(www.xing528.com)
图4.1-9表示试验频率、试件电导率、提离对放置线圈阻抗的影响。
图4.1-9 频率、电导率、提离的改变对放置线圈阻抗的影响
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