项目对我国纳米制造的促进作用

本重大研究计划在实施过程中，始终瞄准国际纳米制造发展前沿，发展了原创的纳米制造新原理与新方法，致力于解决我国纳米制造的瓶颈问题与“卡脖子”技术。经过8年持续支持，解决了纳米制造过程中精度提升与批量制造相关的若干关键科学问题和技术难题，初步建立了纳米制造工艺与装备的理论体系和技术基础，为纳米制造的一致性和批量化提供了理论基础和技术装备支持。

在纳米精度制造方面，提出了纳米精度表面的原子级材料层状去除原理与亚纳米面型精度控制理论，实现了原子尺度极限光滑表面抛光，系统地解决了表面制造精度由纳米精度向亚纳米精度突破的共性理论问题，并应用于芯片制造、强激光反射镜制造等国家战略性领域，实现了芯片制造过程的晶圆平坦化和装备自主化。

在纳米尺度制造方面，提出了界面电荷调控的纳米压印制造原理，探索了外场诱导三维制造原理与结构自约束的纳米结构高精度可控制造原理，解决了多尺度异型纳米结构制造技术瓶颈，应用于无人机防表面结冰、太空可逆黏附薄膜等领域，有效支撑了我国相关国防军事领域的发展。该原理与方法应用于大尺寸电容触控屏、平板显示（超薄导光板）等领域，从实验室走向产业应用，形成了上下游创新链，形成和催生了我国纳米制造相关产业。 (www.xing528.com)

在跨尺度制造方面，提出了超快激光时空整形微纳加工新原理，建立了大幅面微纳结构制造中精度传递理论与大幅面一致性制造理论，成果应用于193 nm光刻机镜头组装配、航天器部段分离地面测试、国家重大工程离轴抛物面镜位姿监测等国家重大科学/工程中，支撑国家发展战略的顺利实施。

在纳米制造装备方面，我国在纳米制造装备方面取得了长足的进步与可喜的成果，从立项之初的整机进口，发展到当前的自主装备研制，部分核心器件实现了自主制造，研发自主装备17台/套。