线性阵列用来沿着一个或两个方向以固定的间距复制出多个新特征，如图4-16所示。
图4-16 线性阵列特征
要创建图4-16所示线性阵列，可执行如下操作：
打开本书提供的素材文件4-3-1.SLDPRT，如图4-17左图所示。在左侧模型树中选中要进行阵列的特征“切除-拉伸2”，如图4-17右图所示。
单击“特征”工具栏的“线性阵列”按钮
，打开“线性阵列”属性管理器，如图4-18左图所示。选择模型右侧的竖直边线作为线性阵列“方向1”的参照，如图4-18右图所示，再在“线性阵列”属性管理器中分别设置在此方向上线性阵列的“间距”和“实例数”分别为14和3，完成线性阵列在此方向上的设置。
图4-17 素材文件和选中的切除拉伸特征
图4-18 设置阵列方向1
展开“方向2”卷展栏，并选中方向2的“阵列方向”列表框，如图4-19左图所示，再选择模型中的“尺寸标注”作为方向参照，同“步骤2”的操作，设置此方向上阵列的“间距”和“实例数”分别为15和4，单击“确定”按钮
完成线性阵列的创建，如图4-19右图所示。
图4-19 设置阵列方向2
提示
选中图4-19左图所示的“只阵列源”复选框，在方向2上将只复制源特征，而不复制方向1上生成的阵列实例，如图4-20所示。
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图4-20 “只阵列源”操作
除了上面介绍的选项外，“线性阵列”特征还具有如图4-21所示几个卷展栏，其作用分别为：
➢“要阵列的面”卷展栏：使用特征的面生成阵列，此时需要选择特征的所有面，并且
生成的阵列特征必须位于同一面或同一边界内。
➢“要阵列的实体”卷展栏：对实体进行阵列操作，如图4-21右图所示。
图4-21 “线性阵列”特征的其他卷展栏和“可跳过的实例”卷展栏的作用
➢“可跳过的实例”卷展栏：可在此卷展栏中选择生成阵列时跳过图形区域中选择的阵列实例，如图4-22左图所示。
➢“特征范围”卷展栏：在多实体零件中执行阵列操作时显示此卷展栏，用于设置阵列特征的应用范围，如图4-22右图所示。
图4-22 跳过某些阵列实例和“特征范围”卷展栏的作用
➢“选项”卷展栏：“随形变化”和“几何体阵列”复选框用于设置或取消阵列特征随“尺寸约束”改变（具体作用可参考其他资料）；“延伸视象属性”复选框用于设置将源特征的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸给阵列实例。
➢“变化的实例”卷展栏：可创建间距递增的阵列，如图4-23所示。
图4-23 “变化的实例”卷展栏的作用
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