(1)领先的横向加热、纵向塞曼扣背景石墨炉技术
SavantAA Zeeman石墨炉原子吸收外观如图8.7所示,相对于横向塞曼效应的石墨炉设计,纵向塞曼效应石墨炉无需在光路中设置偏振器,使到达检测器的光通量增加1倍,因而具有更高的灵敏度,同时具有更好的校正线性度。横向加热方式,配合GBC独特设计的一体化石墨管,使石墨管中全部样品区具有更高的温度和更大的温度分布均匀性,保证了样品原子化的高效性和均匀性,如图8.8所示。这些特点使得SavantAA Zeeman可以实现对特别复杂样品的分析,而且能够得到准确可靠的结果。
图8.7 SavantAA Zeeman石墨炉原子吸收
高效的石墨炉设计和精确的温度控制提供了最佳的分析环境,这使得GBC的仪器在多次测量和自动操作时,可以得到持续稳定的性能。最大2500℃/s的升温速率保证高温元素最优化的原子化状态。
(2)可变磁场强度塞曼扣背景技术
对很多样品类型来说,所有元素都采用同一个恒定的磁场强度,会在分析性能上带来严重的局限性。第二代的SavantAA Zeeman允许对每一种元素和基体的组合采用最优化的磁场强度,从而得到了最佳的背景校正效果和最优的灵敏度。磁场强度可以在最低的0.6特斯拉和最高的1.1特斯拉之间连续改变。磁场强度一旦选定,在测量过程中就保持不变。操作者可以对每个元素设定最优的磁场强度,使塞曼效应最大化(由测量磁场灵敏度比MSR表示),并得到无与伦比的灵敏度。
其他品牌的塞曼扣背景技术对某些元素降低了初级谱线的性能,比如,对Al元素,不得不采用次级谱线才能得到合理的灵敏度,但是SavantAA Zeeman根本不会出现这种情况,可变磁场强度背景校正技术使灵敏度和精度都达到最大化,保证每次都能得到最准确的测量结果。
(3)精确的背景校正技术(www.xing528.com)
环境样品中痕量成分的分析,要求精密而准确地测量。最重要的一点是,在石墨炉中瞬时背景和被测元素的信号随时会发生较大的变化,这将带来明显的测量误差。
SavantAA Zeeman采用最快速的背景校正技术,即超脉冲氘灯背景校正,扣背景的延迟时间仅1ms,比其他品牌的仪器至少快4倍,最大程度地解决了扣背景延迟,包括较大的背景吸收和结构背景,快速背景校正可以提供更精密、更精确的测量结果。
(4)易于拆装、自动对准的石墨管
独一无二的整体铸造的工作头,具有集成在一起的磁场和石墨炉,且由最先进的电源控制。这种设计的主要好处是备有石墨管专用的开口和具有石墨管的自动对准功能,从而方便石墨炉的清理和石墨管的更换。
枢轴结构的石墨炉夹持组件中装有安全互锁装置,以防止在石墨炉打开的状态下操作仪器。
图8.8 SavantAA Zeeman横向加热石墨炉
石墨管外形具有单向配合和样品注射口自动居中的特点,保证了石墨管的自动对准。
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