连续脱溶对显微组织的影响

在合金的脱溶过程中，脱溶物附近基体中的浓度变化为连续的，故称为连续脱溶。连续脱溶又可分为均匀脱溶和非均匀脱溶两种。均匀脱溶的析出物较均匀地分布在基体中，而非均匀脱溶的析出物的晶核优先在晶界、亚晶界、滑移面、孪晶界面、位错线及其他晶体缺陷处形成。实际合金几乎都属于非均匀脱溶，而均匀脱溶是很少见的。常见的非均匀脱溶有滑移面析出和晶界析出。这里的滑移面是切应力所造成的，而切应力一般是在固溶淬火时形成的，在固溶淬火后时效处理前施以冷变形也可以形成切应力。

某些时效型合金（如铝基、钛基、铁基，镍基等）在晶界析出的同时，还会在晶界附近形成一个无析出区，如图17-8所示。有些无析出的区宽度很小，只在电镜下才能观察到。无析出区的存在将降低合金的屈服强度，易于在该区发生塑性变形，导致晶间破坏。另外，相对于晶粒内部而言，无析出区是阳极，易于发生电化学腐蚀，从而使应力腐蚀加速。

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图17-8　Al-20%Ag合金的晶界析出及无析出区

电镜观察发现，在固溶处理状态下无析出区中无位错环存在，而其他区域都有大量的位错环。因此认为，无析出区的形成很可能是由于该区位错密度低而不易形核所致。避免出现无析出区的办法是采用一定量的预变形，使该区产生位错，如A1-7%Mg合金时效前，经15%拉伸变形便可消除晶界附近的无析出区。

当析出过渡相到达平衡相时，析出物与基体相之间的共格关系逐渐被破坏，由完全共格变为部分共格，甚至为非共格关系。虽然如此，在连续脱溶的显微组织中，析出物与基体相之间往往仍然保持着一定的晶体学位向关系，其截面一般呈针状。此外，连续脱溶产物还有呈球状（等轴状）、立方体状的。