处理7.2版图数据以满足掩膜版制作要求

在形成整体的版图并通过DRC、LVS的验证后，版图设计过程就完成了，但这个时候的版图GDS数据还不能拿去制作掩膜版，还需要对该GDS数据进行处理，这是因为：

①该版图GDS数据中的层次跟最终制版的层次并不是完全一致，关于这点在第1章中已经提到。

②该版图GDS数据还需要进行工艺涨缩处理，以满足掩膜版制作要求。

本节将以D508项目为例介绍版图数据处理方面的内容。

1.加工线要求的掩膜版层次

针对某一个具体的工艺，加工线都会规定一个掩膜版的层次。以D508项目为例，加工线华润上华对D508所采用的工艺0.8μmDPDM规定了表7-1所示的掩膜版层次。

表7-1 华润上华对D508所采用的工艺0.8μmDPDM的掩膜版层次

对照表7-1和图2-52，可以发现掩膜版层次和版图输入层次存在以下差异：

①版图输入层次中没有P-well这一层，但掩膜版中需要这一层，这个可以通过对输入的版图数据进行数据处理得到，方法很简单，只要对版图输入的N-well这一层的数据进行一下取反的运算就可以了。

②版图输入层次中有ndiff、pdiff两层，分别为N型有源区和P型有源区，但最终制版用的层次中只有Active这一层有源区，不区分N型或者P型，这个也可以通过对输入的版图数据进行运算来得到。

当然在版图输入时是可以完全按照制作掩膜版所要求的层次，那么就可以不进行版图输入数据的层次处理，但这样做会给版图输入增加很大的工作量。比如上面提到的P-well这一层，如果在版图输入中直接输入，那么增加的版图输入工作量很大，尤其是当版图规模很大时，而版图输入时不考虑这一层，在进行数据处理时可以很简单地得到P-well这一层数据。

另外在表7-1中列出了工艺偏差一栏，这就是对输入的版图数据进行涨缩的数值，举例：N-well这一层的工艺偏差为-0.025μm，那么就需要对输入的版图数据中的nwell这一层的数据缩0.025μm，以满足掩膜版制作的要求。

2.版图数据处理方法和步骤

1）首先编写一个版图数据处理的命令文件。(www.xing528.com)

以下为D508项目版图数据处理命令文件D508.lapo的部分。

在该命令文件中，把要进行版图数据层次处理和工艺偏差涨缩处理的相关运算操作都放在其中。

2）运行PDRACULA。

在/home/angel/cds/drac目录中新建一个/lapo目录，把以上编写的D508.lapo放在/home/angel/cds/drac/lapo目录中，运行PDRACULA命令，在弹出的PDRACULA界面中依次执行：

①/g D508.lapo。

②/f。执行完后，该目录下会生成jxrun.com文件。

③执行“./jxrun.com”命令，结束后在该目录下会生成一个D508LAPO.gds文件，这个版图文件就是经过数据处理后可以用于制作掩膜版的版图数据文件。

3.制版文件的编写

在以上版图数据完成后交给掩膜版制作工厂的同时需要提供一个制版文件，对版图数据、层次等进行相关的说明，作为掩膜版制作工厂进行掩膜版制作的依据，表7-2为D508项目的制版文件。

表7-2 D508项目的制版文件

注：由于D508项目没有N+Code和High resistor这两层，所以跟表7-1标准的0.8μm DPDM工艺的掩膜版层次相比表7-2所示的D508项目的掩膜层次中少了两层，总共有12块掩膜版。