有同学会问，为什么工业界一直用193 nm光源做光刻？不是说光刻光源波长越短，分辨率越高吗？
Intel 的22 nm依然花了5 000万美元，买193 nm光刻机，为什么呢？而且光刻层增加到45层。45层光刻一个头发丝不能错，为什么不用更高分辨率的光源呢？
从理论上来讲，光刻分辨率R=K（波长λ/光学数值孔径NA）。
这多简单啊，想提升分辨率，降低波长呗。
有低波长的光源吗？有，极紫外光（EUV）的波长理论上可以低到13 nm，这可比193 nm小多啦，为什么不用呢？
因为如果用193 nm光源，就像那个5 000万美元的尼康光刻机，大小还是可以放在车间的。
如果用EUV，光源功率小，得给它配个足球场那么大的电源才能干得动光刻这个活儿。做芯片的开厂子，不是核电站呀，去哪里找这么大的能源伺候它呀。
其他短波长，功率需求不大的有吗？ 有，X射线，就是医院给拍骨头的X光机，它要在黑屋子里进行。这意味着几十层光刻不能实时监控，做完直接看效果。这个难度就像让盲人绣花还一针不许错。太欺负人啦。(www.xing528.com)
那还是在193 nm上想想办法吧，怎么想呢？一次光刻做不了22 nm，咱刻两次44 nm，刻一次 44 nm黄色，刻一次44 nm绿色，二层重叠一看，黄绿相间22 nm，妥啦。
还有其他办法可想吗？有啊，再回忆光刻分辨率的公式。加大NA也可以提升分辨率，NA这个值与光折射率有关，提高折射率，NA增加，分辨率就更优啦。分辨率R=K（波长λ/光学数值孔径NA）。
怎么增加光折射率呢？在空气里折射率=1，在水里折射率是1.44，科学家们就把光刻机放水里做，叫浸没式实现方法。
科学家为了省点电真不容易，继续想办法把193 nm光源放到磷酸溶液中，磷酸折射率比水的1.44大一点，为1.54。难怪193 nm的光源卖5 000万美元，这就是不可替代性的价值所在。
浸没式实现法
光刻光源相关参数
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