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电力场效应晶体管的工作原理及应用

时间:2023-06-24 理论教育 版权反馈
【摘要】:电力场效应晶体管同小功率场效应晶体管一样也有两种类型,即结型和绝缘栅型。但通常使用的是绝缘栅型中的MOS型,简称电力场效应晶体管,通常用P-MOSFET表示。P-MOSFET在导通时只有一种极性的载流子参与导电,所以称为单极型晶体管。为有效利用器件面积,每个元制成六边形。在用光刻法除去一部分氧化物后,进行P区和N+源区双区双扩散,并沉积源极电极。该区对应于GTR饱和区。图1-30b为P-MOSFET开关特性曲线。

电力场效应晶体管的工作原理及应用

电力场效应晶体管同小功率场效应晶体管一样也有两种类型,即结型和绝缘栅型。但通常使用的是绝缘栅型中的MOS型,简称电力场效应晶体管(Power-Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor),通常用P-MOSFET表示。

P-MOSFET在导通时只有一种极性的载流子(多数载流子)参与导电,所以称为单极型晶体管。

P-MOSFET是通过栅极电压来控制漏极电流的,因此其驱动功率小,驱动电路简单,同时具有开关速度快、工作频率高的特点。P-MOSFET的工作频率在电力电子器件中最高,但电流容量相对较小,耐压较低,一般只适用于容量相对较小的装置。

1.P-MOSFET的结构和工作原理

P-MOSFET的种类和结构较多,按导电沟道分为P沟道和N沟道两种。当栅极电压为零时源漏之间就存在导电沟道的称为耗尽型;对于N(P)沟道器件,当栅极电压大于(或小于)零时才存在导电沟道的称为增强型。P-MOSFET在实际应用中,主要是N沟道增强型。

P-MOSFET和小功率MOS管的原理基本相同,但在结构上有较大区别。小功率MOS管是由一次扩散形成的器件,其栅极G、源极S和漏极D在芯片同一侧,导电沟道平行于芯片表面,属横向导电器件。P-MOSFET是由两次扩展形成的器件。一般100V以下的器件是横向导电的,称为横向双扩散器件(Lateral Double Diffused),简称LDMOS。电压较高的器件做成垂直导电型,称为垂直双扩散器件(Vertical Double Diffused),简称VDMOS。这种器件是把漏极移到另一个表面上,使从漏极到源极的电流垂直于芯片表面流过,这样有利于加大电流密度和减小芯片面积。下面主要以VDMOS型器件为例进行讨论。

P-MOSFET是多元集成结构,一个器件由许多个小P-MOSFET元组成。为有效利用器件面积,每个元制成六边形。图1-28a是VDMOS中一个单元的截面图,它是在电阻率很低的重掺杂N+衬底上生长一层漂移层N,该层的厚度和杂质浓度决定了器件的正向阻断能力。然后在漂移层上再生长一层很薄的栅极氧化物,在氧化物上沉积多晶硅栅极。在用光刻法除去一部分氧化物后,进行P区和N+源区双区双扩散,并沉积源极电极。这样,就形成了N沟道增强型P-MOSFET。P-MOSFET的电气图形符号如图1-28b所示。

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图1-28 P-MOSFET的结构和电气图形符号

当漏极接电源正端,源极接电源负端,栅极和源极间电压为零时,P基区与N漂移区之间形成的PN结J1反偏,漏源极间无电流流过。如果在栅极和源极间加一正电压UGS,由于栅极是绝缘的,所以并不会有电流流过。但栅极的正电压却会将其下面P区中的空穴推开,而将P区中的少数载流子电子吸引到栅极下面的P区表面。当UGS大于某一电压UT时,栅极下P区表面的电子浓度将超过空穴浓度,从而使P型半导体反型成N型半导体而成为反型层,该反型层形成N沟道而使PN结J1消失,漏极和源极导电。电压UT称为开启电压或阈值电压UGS超过UT越多,导电能力越强,漏极电流越大,IDUGS的关系曲线反映了输入电压和输出电流的关系,称为P-MOSFET的转移特性,如图1-29a所示。从图中可见,ID较大时,IDUGS的关系近似线性,曲线的斜率被定义为跨导Gfs,即

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P-MOSFET是电压控制型器件,其输入阻抗极高,输入电流非常小。

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图1-29 P-MOSFET的转移特性和输出特性

a)P-MOSFET的转移特性 b)P-MOSFET的输出特性

图1-29b是P-MOSFET的漏极伏安特性,也称输出特性。从图中可以看出,P-MOSFET有3个工作区:

1)截止区:UGSUTID=0。

2)饱和区:UGSUTUDSUGS-UT,当UGS不变时,ID几乎不随UDS的增加而增加,近似为常数,故称为饱和区。该区与GTR放大区对应。(www.xing528.com)

3)非饱和区:UGSUTUDSUGS-UT,漏源电压UDS与漏极电流之比近似为常数。该区对应于GTR饱和区。

2.P-MOSFET的开关特性

图1-30a是用来测试P-MOSFET开关特性的电路。图中up为矩形波信号源,如图1-30b所示,RS为信号源内阻,RG为栅极电阻,RL为漏极负载电阻,RF用于检测漏极电流。图1-30b为P-MOSFET开关特性曲线。图中uGS是栅极电压波形,iD是漏极电流波形,td(on)是开通延迟时间,tr上升时间td(off)是关断延迟时间,tf是下降时间。则P-MOSFET的开通时间和关断时间定义为:

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图1-30 P-MOSFET的开关过程

a)测试电路 b)P-MOSFET开关特性曲线

开通时间ton——开通延迟时间td(on)与上升时间tr之和,以ton表示,即

ton=td(on)+tr (1-11)

关断时间toff——关断延迟时间td(off)与下降时间tf之和,以toff表示,即

toff=td(off)+tf (1-12)

3.P-MOSFET的主要参数

1)漏极电压UDS——P-MOSFET电压定额的参数。

2)漏极直流电流ID和漏极脉冲电流幅值IDM——P-MOSFET电流定额的参数。

3)栅源电压UGS——栅源极间所加电压,由于栅源之间的绝缘层很薄,UGS>20V将导致绝缘层击穿。

4)极间电容——P-MOSFET的3个电极之间分别存在极间电容CGSCGDCDS。一般生产厂提供的是漏源极短路时的输入电容Ciss、共源极输出电容Coss和反向转移电容Crss。它们之间的关系是

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前面讲过的Cin可近似用Ciss代替。这些电容都是非线性的。漏源间耐压、漏极最大允许电流和最大耗散功率决定了P-MOSFET的安全工作区。一般来说,P-MOSFET不存在二次击穿问题,这是它的一大优点。目前,它主要应用于小功率电子设备中。

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