【摘要】:每个MOS 场效应管在硅片上所占的面积只有双极性晶体管的5%。表1.4各类场效应管的符号和特性曲线续表3.场效应管与三极管的比较场效应管的栅极G、源极S、漏极D 分别对应于晶体管的基极B、发射极E、集电极C。表1.5场效应管与三极管具体内容比较
(1) 场效应管是一种电压控制器件,即通过uGS来控制iD; 双极型晶体管是一种电流控制器件,即通过iB来控制iC。
(2) 场效应管的输入端电流几乎为零,输入电阻非常高; 双极型晶体管的发射结始终处于正向偏置,有一定的输入电流,基极与发射极间的输入电阻较小。
(3) 场效应管是利用多数(一种极性) 载流子导电的; 在双极型晶体管中两种极性的载流子(电子和空穴) 同时参与了导电。
(4) 场效应管具有噪声小、受辐射的影响小、热稳定性较好,且存在零温度系数工作点。
(5) 场效应管的结构对称,有时(除了源极和衬底在制造时已连在一起的MOS 管) 漏极和源极可以互换使用,且各项指标基本不受影响,使用方便、灵活。
(6) 场效应管制造工艺简单,有利于大规模集成。 每个MOS 场效应管在硅片上所占的面积只有双极性晶体管的5%。
(7) 场效应管的跨导小,当组成放大电路时,在相同的负载电阻下,电压放大倍数比双极性晶体管低。
(8) 由于MOS 管的输入电阻高,由外界感应产生的电荷不易泄漏,而栅极上的绝缘层又很薄,这将在栅极上产生很高的电场强度,以致引起绝缘层的击穿而损坏管子。
2.各类场效应管的符号和特性曲线(www.xing528.com)
各类场效应管的符号和特性曲线见表1.4。
表1.4 各类场效应管的符号和特性曲线
续表
3.场效应管与三极管的比较
场效应管的栅极G、源极S、漏极D 分别对应于晶体管的基极B、发射极E、集电极C。
表1.5 场效应管与三极管具体内容比较
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