如何创建线性阵列？

线性阵列用来沿着一个或两个方向以固定的间距复制出多个新特征，如图4-89所示。

图4-89 “线性阵列”特征

要创建图4-89所示线性阵列，可执行如下操作：

打开本书提供的素材文件“4.8.1SC.SLDPRT”，如图4-90a所示。在左侧模型树中选中要进行阵列的特征“切除-拉伸2”，如图4-90b所示。

图4-90 素材文件和选中的“切除拉伸”特征

单击“特征”工具栏的“线性阵列”按钮，打开“线性阵列”属性管理器，如图4-91a所示。选择模型右侧的竖直边线作为线性阵列“方向1”的参照，如图4-91b所示，再在“线性阵列”属性管理器中设置在此方向上线性阵列的“间距”和“实例数”分别为“14mm”和“3”，完成线性阵列在此方向上的设置。

图4-91 设置阵列方向1

展开“方向2”卷展栏，并选中其中的“阵列方向”列表框，如图4-92a所示，再选择模型中的“基准轴1”作为方向参照，同“步骤2”的操作，设置此方向上阵列的“间距”和“实例数”分别为“15mm”和“4”，单击“确定”按钮完成线性阵列的创建，如图4-92b所示。

图4-92 设置阵列方向2

提示

选中如图4-92a中所示的“只阵列源”复选框，在方向2上将只复制源特征，而不复制方向1上生成的阵列实例，如图4-93所示。

图4-93 选中“只阵列源”复选框效果(www.xing528.com)

除了上面介绍的选项外，“线性阵列”特征还具有如图4-94a所示几个卷展栏，其作用分别为：

➢ “特征和面”卷展栏：（除了对特征进行阵列）当对面进行阵列时，需要选择特征的所有面，并且生成的“阵列”特征必须位于同一面或同一边界内。

➢ “实体”卷展栏：对实体进行阵列操作，如图4-94b所示。

图4-94 “线性阵列”特征的“特征和面”卷展栏和“实体”卷展栏的作用

➢ “可跳过的实例”卷展栏：可在此卷展栏中设置生成阵列时跳过图形区域中选择的阵列实例，如图4-95a所示。

➢ “特征范围”卷展栏：在多实体零件中执行阵列操作时显示此卷展栏，用于设置“阵列”特征的应用范围，如图4-95b、c所示。

图4-95 “可跳过的实例”和“特征范围”卷展栏的作用

➢ “选项”卷展栏：其中的“随形变化”和“几何体阵列”复选框用于设置或取消“阵列”特征随尺寸约束改变（具体作用可参考其他资料）；“延伸视象属性”复选框用于设置将源特征的颜色、纹理和装饰螺纹数据延伸给阵列实例。

➢ “变化的实例”卷展栏：可创建间距递增的阵列，如图4-96所示。最后介绍一下“方向1”和“方向2”卷展栏中“到参考”单选按钮的作用。当选中该单选按钮时，可以设置一个参考点，或边线、或面（该边线或面需与参考方向垂直），然后以该参照为基准，在“方向1”（或“方向2”）方向上设置一个距离该参照的偏移距离，以该距离，加上参照点距离所选特征的距离，以等距方式，或以设置阵列个数方式，来创建“阵列”特征（阵列的参考，可以是特征上的点、线、面，或重心）。

图4-96 “变化的实例”卷展栏的作用

提示

使用“到参考”方式创建“阵列”特征时，创建方法更加灵活，但是使“阵列”特征变得复杂了，新用户可以先掌握好常用的“间距和实例数”方式后再来学习此方式。