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各种气体对铜铟镓硒薄膜太阳电池材料的影响

时间:2023-06-22 理论教育 版权反馈
【摘要】:3.铜铟镓硒薄膜太阳电池用材料背接触层钼、氩气,吸收层铜、铟、镓、硒四元素,缓冲层硫化镉,窗口层氧化锌,磁控溅射法精确控制化学计量比,最后盖上超白低铁玻璃。

各种气体对铜铟镓硒薄膜太阳电池材料的影响

1.非晶硅薄膜太阳电池用气体

硅烷(SiH4)、乙硅烷(Si2H6)。制备n型掺杂材料加入磷烷(PH3),制备p型掺杂材料加入乙硼烷(B2H6)、三甲基硼烷(B(CH3)3)或三氟化硼(BF3)。用氢气(H2)或惰性气体氦气(He)、氩气(Ar)稀释硅烷。锗烷(GeH4)用于多结电池。

2.微晶硅薄膜太阳电池用气体

所用材料与非晶硅相近,在玻璃衬底上制作背反射层,用等离子CVD沉积一层n型硅,然后用等离子CVD沉积工作层,即本征多晶硅薄膜(硅烷),最后依次沉积p型硅薄膜和氧化铟锡(ITO)薄膜,再在顶上做上梳状栅电极。

3.铜铟镓硒薄膜太阳电池用材料

背接触层钼(Mo)、氩气(Ar),吸收层铜、铟、镓、硒四元素,缓冲层硫化镉(CdS),窗口层氧化锌(ZnO),磁控溅射法精确控制化学计量比,最后盖上超白低铁玻璃。(www.xing528.com)

4.砷化镓薄膜太阳电池用气体

用金属有机化学气相沉积法(MOCVD),通入H2、三钾基镓(TMGa)、三钾基铝(TMAl)、三钾基铟(TMIn)金属有机化合物气体及砷烷(AsH3)、磷烷(PH3)等氢化物,在适当的温度下,这些气体进行多种化学反应,生成GaAs、GaInP、AlInP等Ⅲ-Ⅴ族化合物,并在GaAs衬底或Ge衬底上沉积,实现外延生长。n型掺杂剂用硅烷(SiH4),p型掺杂剂用二乙基锌(DEZn)或CCl4

5.碲化镉薄膜太阳电池用材料

ITO+SnO2作透明导电膜;粉末或颗粒CdS;粉末或颗粒CdTe用升华法沉积作为吸收层;硅烷、氨气四氯化碳、液氧、氮气、氢气。

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