1.导体、绝缘体、半导体
能够导电的物质叫导体,不能导电的物质叫绝缘体,介于导体与绝缘体两者之间的物体叫半导体。导体有金属、石墨、大地、人体以及各种酸、碱、盐的水溶液等;绝缘体有橡胶、塑料、玻璃、云母、陶瓷、纯水、油、空气等;半导体有硅、锗、砷化镓、磷化铟、氮化镓等。
2.半导体
半导体是指导电能力介于导体与绝缘体两者之间的物质。半导体大体上可分为两类,即本征半导体和杂质半导体。本征半导体是指纯净的半导体。纯净一是指半导体材料中只含一种元素的原子,二是指原子与原子之间的排列是有一定规律的。本征半导体的特点是导电能力极弱,且随温度变化导电能力有显著变化。杂质半导体是指人为地在本征半导体中掺入微量其他元素(称杂质)所形成的半导体,杂质半导体有两类,即N型半导体和P型半导体。
3.半导体材料常用的表征参数
半导体材料常用的表征参数有电学参数、化学纯度、晶体学参数和几何尺寸。
1)电学参数有电阻率、导电类型、载流子浓度、迁移率、少数载流子寿命、电阻率均匀性。
2)化学纯度有材料的本底纯度。
3)晶体学参数有晶向、位错密度。
4)几何尺寸有直径、晶片厚度、弯曲度、翘曲度、平行度、抛光面的平坦度等。
4.元素半导体材料
已知有12个元素具有半导体性质,即硼(B)、碳(C)、硅(Si)、磷(P)、硫(S)、锗(Ge)、砷(As)、硒(Se)、锡(Sn)、锑(Sb)、碲(Te)、碘(I)。硅具有优良的半导体性质,是最主要的半导体材料。锗具有良好的半导体性质,是重要的半导体材料之一。
5.化合物半导体材料
化合物半导体材料按其构成元素的数量可分为二元、三元、四元等,按其构成元素在元素周期表的位置可分为Ⅲ~Ⅳ族、Ⅱ~Ⅵ族、Ⅱ~Ⅳ~Ⅵ族等,种类繁多,性能各异,用途多种多样。20世纪80年代,以砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)为代表的化合物半导体材料及其器件得到迅速发展。
6.半导体中的载流子
载流子就是电荷的载体(电荷的输送者),也就是能够移动的荷电粒子,载流子数量大,电导率就高。具有无数载流子的物质是导体,没有载流子的物质是绝缘体,可以改变载流子数量的物质是半导体。电子、正离子、负离子、半导体导带中的电子、空穴等都是载流子。
7.半导体的分类
根据其性能可分为高温半导体、磁性半导体、热半导体;根据其结晶结构可分为金刚石型、闪锌矿型、纤锌矿型半导体;根据其结晶程度可分为晶体半导体、非晶体半导体、微晶体半导体;根据其化学组成分可分为元素半导体、化合物半导体、固溶半导体三大类,化合物半导体可分为无机化合物半导体和有机化合物半导体。
8.N型半导体
“N”表示负电的意思,常温下半导体的导电性能主要由杂质来决定,当半导体中掺有施主杂质时,主要靠施主提供带负电的电子导电,这种依靠电子导电的半导体叫做N型半导体。例如,下列的掺杂都称为N型半导体:
1)硅(Si)中掺有V族元素杂质磷(P)、砷(As)、锑(Sb)、铋(Bi)。
2)砷化镓(GaAs)掺有Ⅳ族和Ⅵ族元素杂质硅(Si)、碲(Te)、硒(Se)。
3)磷化铟(InP)中掺有元素杂质硫(S)、锡(Sn)。
4)氮化镓(GaN)中掺有Ⅳ族和Ⅵ族元素杂质硅(Si)、碲(Te)、硒(Se)。
5)碳化硅(SiC)中掺有元素杂质氮(N)、磷(P)、砷(As)。
9.P型半导体
“P”表示正电的意思,当半导体中掺有受主杂质时,主要靠受主提供带正电的空穴导电,这种依靠空穴导电的半导体叫做P型半导体。例如,下列的掺杂都称为P型半导体:
1)硅(Si)中掺有V族元素杂质硼(B)、铝(A)、镓(G)、铟(I);砷化镓(GaAs)中掺有元素杂质锌(Zn)、镉(Cd)、镁(Mg)、铍(Be)、碳(C)。
2)磷化铟(InP)中掺有元素杂质锌(Zn)、镉(Cd)。
3)氮化镓(GaN)中掺有元素杂质锌(Zn)、镉(Cd)、镁(Mg)、铍(Be)、碳(C)。
4)碳化硅(SiC)中掺有元素杂质铝(Al)、镓(G)、铍(Be)。
10.PN结的形成
开始时,有人想用机械方法把P型材料与N型材料结合在一起,结果都不成功。这说明PN结并不是将P型半导体和N型半导体简单地连接在一起就可以了,而是要用扩散法、离子注入法、合金法和薄膜生长法工艺,使半导体的一部分呈P型,一部分呈N型,N型半导体中的多数载流子电子就向P型半导体一边扩散。结果使N型区域中邻近P型区一边的薄层A中有一部分电子扩散到P型区域中去了,如图3-3所示。电子扩散至P型区域,薄层A中因失去了这一部分电子而带正电。同样,P型区域中邻近N型区域一边的薄层B中有一部分空穴扩散到N型区域一边去了,如图3-4所示。空穴扩散至N型区域,结果使薄层B带有负电。这样就在N型和P型两种不同类型半导体的交界面两侧形成了带电薄层A和B(其中A带正电,B带负电),A、B间便产生了一个电场,这个带电的薄层A和B叫做PN结,也叫做阻挡层。
图3-3 电子扩散至P型区域
图3-4 空穴扩散至N型区域
11.PN结的特性
当P型区域接到电池的正极、N型区域接到电池的负极时(这种接法称为正向连接),漂移和扩散的动态平衡被破坏,在PN结中流过的电流很大。这时,电池在PN结中所产生的电场方向恰好与PN结原来存在的电场方向相反,而且外加电场比PN结电场强,这两个电场叠加后,电场是由P型区域指向N型区域的。因此,PN结中原先存在的电场被削弱了,阻挡层的厚度减小了,所以正向电流将随着外加正向电压的增加而迅速上升。
当P型区域接到电池的负极、N型区域接到电池的正极时(这种接法称为反向连接),在PN结中流过的电流很小。这是由于外加电压在PN结中所产生的电场方向是由N型区指向P型区,也即与PN结原来存在的电场方向一致,这两个电场叠加后,加强了电场阻碍多数载流子的扩散运动。此时,阻挡层的厚度比原来增大,原来漂移和扩散的动态平衡也被破坏了,漂移电流大于扩散电流,正是这个电流造成了反向漏电流。
PN结的这个性质叫做单向导电性。
12.载流子
能自由运动在导带中的电子和自由运动在价带中的空穴称为载流子。
13.本征导电
对于纯净的而又没有缺陷的半导体,在电子导电的同时,必然也有空穴导电。具有电子在导带中和空穴在满带中相互并存的导电机构,称为本征导电。
14.掺杂
根据需要可以在纯净半导体晶体点阵里,用扩散等方法掺入微量的其他元素,所掺入的元素对半导体基体而言,称为杂质(间隙杂质、替位杂质)。掺有杂质的半导体称为掺杂半导体。(www.xing528.com)
15.施主
提供电子的杂质称为施主。杂质价电子在局部能级中,并不参与导电,但是在受到激发时,很容易跃迁到导带上去。这些局部能级称为施主能级,用ED表示。这种杂质半导体的导电机构,是由杂质中多余电子经激发而跃迁至导带中形成的,称为电子型(N型)半导体。
16.受主
在半导体中,从半导体接受电子的杂质称为受主。与之相应的能级称为受主能级,用EA表示。这种杂质半导体的导电机构基本上取决于价带中空穴的运动,所以称为空穴型(P型)半导体。
17.耗尽层
一个电子碰到了空穴,电子进入空穴,填补了空穴所缺的电子,这样空穴就消失。因为填补空穴的电子并非来自邻近原子的价电子,而是来自导带的电子,所以并未产生新的空穴,没有发生空穴位移。这样,在PN结两侧的一定尺寸的范围内可移动的载流子基本上消失,也就是耗尽,这个层称为耗尽层。
18.势垒
耗尽层中可观察到势垒的变化。PN结电位倾斜表明它能阻止载流子流动,从这个意义上讲,耗尽层中的电位倾斜被称为势垒。为了使载流子流动,可以设法加一个电压使该势垒的高度降低。
19.内电场
P型区一侧呈负电荷,N型区一侧呈正电荷,因此空间电荷区出现了方向由N型区指向P型区的电场,由于这个电场是载流子扩散运动形成的,而不是外加电压形成的,故称为内电场,如图3-5所示。内电场是由多子的扩散运动引起的,伴随着它的建立,将带来两种影响:一是内电场将阻碍多子的扩散;二是P型区和N型区的少子一旦靠近PN结,便在内电场的作用下漂移到对方区域,使空间的电荷区变窄。因此,扩散运动使空间电荷区加宽,内电场增强,有利于少子的漂移,而不利于多子的扩散;漂移运动使空间电荷区变窄,内电场减弱,有利于多子的扩散,而不利于少子的漂移。当扩散运动和漂移运动达到动态平衡时,交界面形成稳定的空间电荷区,即PN结处于动态平衡。
图3-5 内电场
图3-6 漂移电流
20.漂移电流
由于外加电压所产生的电场,使电子和空穴因电性相吸引而流动产生电流,称为漂移电流,如图3-6所示。
21.扩散电流
将P型半导体与N型半导体结合,加正向电压,电子从N型半导体流入P型半导体,而空穴从P型半导体流入N型半导体,即电子和空穴因热运动从密度高的地方流入到密度低的地方,在这样的结构中流动的电流称为扩散电流,如图3-7所示。在双极性晶体管或PN结二极管中,扩散电流为主体。
22.半导体导电
如果外电场未能改变满带中电子的量子状态,即不能增加电子的能量和动量,因而不能产生电子的定向运动,不会产生电流。如果加强电场,或者利用热和光的激发,使价带(满带)中的电子获得足够的能量(大于其禁带宽度Eg),而跃迁到导带中去,如图3-8所示。这样,半导体则可能导电。
图3-7 扩散电流
图3-8 半导体导电
图3-9 PN结加正向电压
23.PN结加正向电压
当PN结外加正向电压时,外加的正向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场,于是内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流增大,扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性,如图3-9所示。
24.PN结加反向电压
当PN结外加反向电压时,外加的反向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相同,加强了内电场,有利于少子的漂移,而不利于多子的扩散,漂移运动起主要作用,漂移运动产生的漂移电流的方向与正向电流相反,称为反向电流。因少子浓度很低,反向电流远小于正向电流。图3-10为PN结加反向电压。
25.漂移速度
半导体在外电场作用时,在载流子的热运动上将叠加一个附加的速度(由电场所引起的载流子的平均速度的增量),称为漂移速度。
26.迁移率
迁移率是用来说明载流子导电运动的一个物理量,就是当电场强度为1V/cm时载流子的漂移速度,单位是cm2/(V·s)。例如,硅的电子迁移率为1350cm2/(V·s),就是说,当电场强度为1V/cm时,电子在硅晶体中以1350cm/s的速度向正电极漂移。迁移率是反映半导体中载流子导电能力的重要参数。载流子在没有电场时,做无规则运动,由于运动方向不断改变,平均位移等于零,不产生电流效应。载流子不断改变运动方向是因为在晶格里和原子碰撞的结果,载流子平均每走几十或几百个原子距离(10-7~10-6 cm),就和原子发生一次碰撞。当在外电场作用下,载流子就顺着或逆着电场作定向运动,产生电流。
掺杂半导体的电导率一方面取决于掺杂的浓度,另一方面取决于迁移率的大小。同样的掺杂浓度,载流子的迁移率越大,材料的电导率越高。迁移率大小不仅关系着导电能力的强弱,而且直接决定载流子运动的快慢,它对半导体器件工作速度有直接的影响。不同的材料,电子和空穴的迁移率是不相同的,迁移率受晶体散射和电离杂质散射的影响,与晶体质量有关,晶体完整性好,迁移率就高。另外,迁移率随温度变化。
27.多数载流子及少数载流子
在本征半导体中,电子和空穴的浓度是相等的,而在含有杂质和晶格缺陷的半导体中,电子和空穴的浓度不相等,把数目多的载流子称为多数载流子,数目少的载流子称为少数载流子。N型半导体中,电子是多数载流子,空穴就是少数载流子;在P型半导体中正好相反,电子是少数载流子,空穴是多数载流子。
28.载流子复合
不存在外电场时,电子和空穴在晶格中的运动是无规则的,电子和空穴经常碰到一起,电子跳到空穴的位置上,把空穴填补掉,这时电子和空穴就随之消失,就种现象就称为载流子复合。
29.晶体管
绝大多数半导体是晶体,因而往往把半导体材料称为晶体,半导体适宜做晶体管,晶体管的名称就是这样得来的。半导体适宜做晶体管是因为半导体具有独特的性质:
1)在本征半导体中适当地掺入极微量的外来杂质,则半导体的导电能力就会有上百万倍的增加,这是半导体最突出、最宝贵的特性。利用这个特性,可以制造出不同性质、不同用途的晶体管。
2)半导体的导电能力随外界条件的变化会有显著不同。例如,当照射在半导体上的光线改变时,或者半导体所处的环境温度变化时,半导体的导电能力均将随着发生显著的变化。利用半导体的这种特性,可制成各种光敏元件(如光敏电阻、光敏二极管、光敏晶体管等)和热敏元件(如热敏电阻)。
图3-10 PN结加反向电压
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