X射线荧光光谱分析的应用与优势

F射线荧光光谱（FRF）分析法是一种重要的化学成分分析手段，可用于各种材料中主量、少量和痕量元素的分析，具有可分析元素范围广（⁴Be～⁹²U），可分析浓度范围宽（10^-4%～100%），可直接分析固体、粉末和液体试样，分析精度高以及可作非破坏分析等特点，因而用途非常广泛。

F射线荧光光谱仪根据能量分辨原理不同可分为波长色散F射线荧光光谱仪、能量色散F射线荧光光谱仪和非色散谱仪。

波长色散F射线荧光光谱仪采用晶体或人工模拟晶体，根据Bragg定律将不同能量的谱线分开，然后进行测量，一般采用F射线管作激发源，可分为顺序式、同时式谱仪和顺序式与同时式相结合的谱仪三种类型。通常波长色散F射线荧光光谱仪主要由F射线管、滤光片、通道面罩、准直器、分光晶体、探测器、测角仪和控制系统等部分组成。常用分光晶体的2d值及应用范围见表3-4。为了有效测量长波长的谱线，设计了一些多层模拟晶体，其2d值可以达到数纳米以上，可以用于分析超轻元素。

表3-4 常用晶体的2d值及适用范围(www.xing528.com)

全反射F射线荧光分析是一种灵敏度很高而操作又相当简便的分析技术，通常采用均匀、表面光滑且无限厚的衬底作样品的载体，如抛光的硅片和石英玻璃。它具有如下特点：①灵敏度高，检出限低至10^-9～10^-12g；②样品用量少；③基体效应一般可忽略，定量分析较简单；④液体试样制作简单；⑤可对光滑的硅片直接进行测定。因此，全反射F射线荧光分析已经成为半导体工业中不可缺少的分析测试手段。