【摘要】：此步骤主要以光刻胶图案为掩膜，使用一定的物理或化学方法对膜层进行腐蚀，被光刻胶覆盖的部分未被腐蚀或腐蚀很慢，未被光刻胶覆盖的部分被腐蚀掉，从而使待刻膜层形成与光刻胶图案完全一致的形状，称为刻蚀。由于图案的精细程度不同，所用的方法不同；由于膜层的材料不同，所用的化学腐蚀液或气体也不同。
此步骤主要以光刻胶图案为掩膜，使用一定的物理或化学方法对膜层进行腐蚀，被光刻胶覆盖的部分未被腐蚀或腐蚀很慢，未被光刻胶覆盖的部分被腐蚀掉，从而使待刻膜层形成与光刻胶图案完全一致的形状，称为刻蚀。由于图案的精细程度不同，所用的方法不同；由于膜层的材料不同，所用的化学腐蚀液或气体也不同。(www.xing528.com)
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