ITO是液晶显示屏（LCD）工业中常用的透明导电玻璃，采用ITO玻璃作为电极图形的基板。实施方案是首先在玻璃基板上制作ITO层和银金属层，然后再进行光刻。目前液晶显示产业发展非常成熟，对于ITO电极层的制备可以直接选用合适的ITO玻璃来使用，然后在ITO玻璃基板上镀制银金属层。由于设计的电极图案精度很高，包括本环节在内，液晶光学相控阵制备的所有流程都要求在超净间内完成。
液晶光学相控阵是通过相位分布的电控调制来实现激光扫描的，要求器件本身相位的起伏小于λ／10，对可见光而言即50 nm左右，对1 550 nm波段而言只有155 nm左右，因此若玻璃基板平整度不好，对实际器件的相位影响很大，应该尽量选择平整度好的玻璃基板。目前液晶显示产业用的ITO玻璃的平整度要求也很高，能够满足液晶光学相控阵的需要。同时，ITO膜的电阻率及透过率对液晶光学相控阵的效果也有影响，膜的厚度对电极刻蚀有影响，需同时考虑。其中薄膜的电阻率常用方块电阻R进行表征，R＝ρ／d（ρ为电阻率，d为薄膜厚度）。从R的表达式可以看出，方块电阻与方块大小无关，只取决于膜厚和膜的电阻率。
对于1.1 mm厚TN型液晶显示用ITO玻璃，平整度小于0.15μm／20 mm，ITO膜方阻为100～300Ω／□，膜厚200～300 nm。STN型ITO玻璃，其平整度小于0.05μm／20 mm，ITO膜方阻小于10Ω／□，膜厚1 000～2 000 nm。选用TN型ITO玻璃平整度相对较差，电阻率也比较大，但膜比较薄，相对容易刻蚀；选用STN型ITO玻璃虽然平整度及电阻率都很好，但膜层很厚，刻蚀难度会比较大。综合比较性能，选用1.1 mm厚的TN型ITO玻璃，ITO膜方阻约60Ω／□，膜厚300 nm。ITO玻璃基板切割成100 mm×100 mm的尺寸，与掩膜板尺寸一致。
切割好的ITO玻璃需要进行清洗，以去除运输、移动过程中表面附着的灰尘、污渍、油脂及其他可能存在的化合物。基片的洁净程度直接影响蒸镀金属层的成膜质量，比如膜层的附着力、有无筛孔等，是整个工艺流程的基础，影响后面所有的工艺环节。ITO基片的清洗过程主要包括以下步骤：
（2）将切割好的ITO玻璃基片装入专用片架并浸入清洗剂I，放入超声波清洗器内超声清洗3～5 min。(www.xing528.com)
（3）浸泡10 min后重复过程（2），将基片随片架取出，用去离子水冲洗。
（5）将清洗剂Ⅰ替换成清洗剂Ⅱ，重复过程（2）（3）。
（6）将清洗剂Ⅱ替换成去离子水，重复过程（2）。
（7）用压缩空气吹去基片表面较大的水滴，放入鼓风干燥箱内干燥备用。
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