组合公差和独立组合公差控制框的区别

ASME Y14.5中明确区分了组合公差控制框和独立组合公差控制框，如图7-50所示。

图7-49 两种公差控制框的对比a）组合公差控制框 b）独立组合公差控制框

如果基准特征B是一个平面，定位一个阵列孔的公称尺寸起始于基准B，那么在这两种公差控制框中的意义完全不同。

这两种控制框中，都有必要的阵列特征内的关系定义。这个更小的公差带进一步约束了阵列内特征间的位置关系（这个例子是孔和孔之间的公差）。同样，如果每组第二行公差框中没有基准参考，或者说第二行公差框中参考了第一行公差框中的主基准（用来作为垂直度的控制），那么两组公差控制方法是一样的。

但是如果第二行公差框中参考的唯一基准与第一行的不同，或者和第一行的基准参考顺序不同，或者第二行引用的基准在第一行中的作用是定位的，那么这两种控制方式意义不同。

在一个组合公差控制框中，只有第一行公差框（阵列的定位公差）中的基准可以被第二行公差框（阵列特征内相关公差）引用。如果第二行公差框（阵列特征内相关公差）引用了不止一个基准，这个基准引用顺序必须同第一行（阵列的定位公差）相同。例如，第一行公差框（阵列的定位公差）中的主定位基准不能成为第二行公差框（阵列特征内相关公差）的第二基准。

在独立组合公差控制框中，第二行的控制框引用的基准不必和第一行的控制框引用的基准或顺序相同。实际上，由于上下两行的公差框完全独立控制一个相同的阵列，基准的如何选择完全取决于设计者的设计意图。(www.xing528.com)

在组合公差控制框中，第二行控制框引用的基准用来约束受控特征相对于这些基准的定向。第二行的控制框中仅适用于倾斜度约束。第一行的控制框（阵列的定位公差）引用的基准起到约束倾斜度或定向（如一个孔阵列对于基准的公差）的。在第二行的控制框（阵列特征内相关公差）中引用的基准起到进一步约束倾斜度或定向的目的（如孔对于同一个阵列中其他孔的公差，销对于同一阵列中其他销的公差）。

在独立组合公差控制框中，第二行的公差控制可能是对第一行的公差框中的公差的进一步约束，或者是参考一组完全不同的基准。如果第二行引用的基准出现在第一行的公差框中，并且顺序相同，则它们是对第一行控制框中的公差的进一步约束。定向基准进一步约束定向，定位约束进一步约束定位。

两种公差控制框的解释如图7-50和图7-51所示。

图7-50 两种公差控制框的解释（一）

图7-52中只有一种可能的阵列与基准和基准内部特征间的公差带分布情况。

图7-53所示是独立组合公差控制框的公差带分布描述。