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石墨化氮化碳纳米条带在石墨烯表面的形成机理分析

时间:2023-06-20 理论教育 版权反馈
【摘要】:进一步延长时间,最终,g-C3N4在石墨烯的表面形成了1D纳米条带的网络结构。这充分说明了利用水热技术可以实现g-C3N4在石墨烯表面的纳米结构及形貌的调控。图7.6g-C3N4 nanoribbons在石墨烯表面的成核和生长过程。当温度升高至180℃时,形成了g-C3N4纳米条带的结构。

石墨化氮化碳纳米条带在石墨烯表面的形成机理分析

1D的g-C3N4 nanoribbon是通过石墨烯诱导组装所形成的,如果在水热过程中没有氧化石墨烯的存在,g-C3N4就不能形成1D的纳米条带结构。为了进一步了解该g-C3N4 nanoribbon的形成过程,我们控制不同的反应时间对其进行了深入研究。先对初始的g-C3N4进行水热处理,如图7.5所示,与原始的牛奶状的g-C3N4相比,高温水热后的g-C3N4水溶液变澄清了,这说明随着温度的升高、溶剂化作用的加强,g-C3N4中的氢键遭到破坏,促使g-C3N4形成分子状态的g-C3N4

图7.5 (a)初始g-C3N4;(b)经过200℃处理6 h的g-C3N4

如图7.6(a)和图7.6(b)所示,在180℃条件下以及水热反应的初始阶段,分子状态的g-C3N4首先在GO片子上的“活性位点”(功能基团、缺陷及褶皱等)进行成核,这些“活性位点”能够降低液体和固体表面的界面能垒,更有利于g-C3N4在石墨烯表面的组装。随着反应时间的延长,g-C3N4逐渐形成了细薄的纳米条带(图7.6(c)(d))。进一步延长时间,最终,g-C3N4在石墨烯的表面形成了1D纳米条带的网络结构(图7.6(e)(f))。然而,如果继续延长反应时间至24 h,g-C3N4的纳米结构将继续发生变化,最终纳米条带遭到破坏。这充分说明了利用水热技术可以实现g-C3N4在石墨烯表面的纳米结构及形貌的调控

图7.6 g-C3N4 nanoribbons在石墨烯表面的成核和生长过程。其中,g-C3N4和GO分散液的水热处理温度为180℃,处理时间分别为0.5 h((a)(b))、4 h((c)(d))和6 h((e)(f))

此外,还研究了反应温度、g-C3N4和GO的质量比对g-C3N4纳米条带组装的影响。如图7.7所示,为了研究水热反应温度对g-C3N4 nanoribbon-G形貌的影响,将反应时间固定在6 h,得到了质量比为1∶0.15的g-C3N4和GO溶液在不同温度下水热反应的产物。当反应温度为100℃时,所得到的产物几乎都是g-C3N4的片子和部分还原的GO的混合物,并没有出现任何g-C3N4组装的迹象(图7.7(a)(b))。当温度升高至180℃时,形成了g-C3N4纳米条带的结构。然而当反应温度进一步升高至230℃时,g-C3N4则更倾向于均匀分散在石墨烯的表面而并没有进行组装,这是由于在较高的温度下,g-C3N4分子不稳定而且较高的溶解度不利于其分子进行自组装(图7.7(c)(d))。同时,也对初始的g-C3N4进行了100℃、180℃及230℃条件下的水热反应。如图7.8((a)(b))所示,经过100℃水热处理之后,所得到的g-C3N4表现出了与初始g-C3N4类似的团聚体。当温度升高到180℃时,部分g-C3N4分子组装成了纳米棒的形状(图7.8(c)(d))。而当温度升高至230℃时,g-C3N4则形成了更小的薄片(图7.8(e)(f))。说明在一定条件下石墨烯能够诱导g-C3N4进行有效的组装。

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图7.7 g-C3N4/G(质量比为1/0.15)在100℃((a)(b))和230℃((c)(d))下处理6 h的SEM图

图7.8 初始的g-C3N4在100℃((a)(b))、180℃((c)(d))和230℃((e)(f))下处理6个小时的SEM图

图7.9显示了不同g-C3N4和GO的质量比对g-C3N4纳米条带组装的影响。由于π-π相互作用,石墨烯能够有效地分散g-C3N4,防止其发生聚集现象,从而实现g-C3N4形貌的调控。当加入少量的GO时(g-C3N4和GO的质量比为1∶0.005和1∶0.01),与初始的g-C3N4相比(图7.9(a)和图7.9(b)),样品中的g-C3N4并没有出现团聚现象而是分散在石墨烯片子上(图7.9(c)~(f))。当g-C3N4和GO的质量比为(1∶0.02)~(1∶0.3)范围内的时候,g-C3N4能够很好地附着在石墨烯的骨架上并且形成了纳米条带的结构(图7.9(g)(h)和图7.10(a)(b))。当继续增大比例(g-C3N4和GO质量比为1∶3)时,如图7.10(c)和图7.10(d)所示,g-C3N4均匀地分散在石墨烯的表面形成了g-C3N4/G的复合物,这可能是由于太多的GO产生了空间位阻进而影响了g-C3N4分子的自组装。

图7.9 初始g-C3N4((a)(b))和g-C3N4/G质量比例为1/0.005((c)(d))、1/0.01((e)(f))和1/0.02((g)(h))在180℃下处理6 h的SEM图

图7.10 ((a)(b))g-C3N4 nanoribbon-G(质量比为1/0.3)和((c)(d))g-C3N4/G(质量比为1/3)在180℃下处理6 h的SEM图,图(b)的插图为g-C3N4 nanoribbon-G相应的放大图

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