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如何提高ESD保护器件的开启速度及其在保护超薄栅氧的SoC中的应用

时间:2023-06-20 理论教育 版权反馈
【摘要】:为了有效保护采用纳米工艺的SoC,必须提高ESD保护器件的开启速度,以便在ESD应力损伤内部电路前快速泄放ESD电流。电源线的布局安排对SoC的ESD级别有着很大的影响。但是四层结构的SCR的开启速度一般较低,如果开启速度太慢将不能有效保护超薄栅氧的SoC。如果采用经过改进了的设计或触发电路,使SCR器件有足够快的开启速度,它将是VDD电压低于1.2V情况下SoC中ESD保护电路的最好选择,而且不会出现闩锁问题。

如何提高ESD保护器件的开启速度及其在保护超薄栅氧的SoC中的应用

随着CMOS工艺不断缩小到纳米尺寸,一个芯片中,例如片上系统(SoC)中集成有更多的电路和功能。在尺寸缩小的CMOS工艺中,栅氧变得更薄,这使其更易受ESD过应力破坏。SoC把更多的电路和功能集成到一个芯片中,其面积一般更大,这就导致SoC整个芯片中一般具有更大的体电容存储CDM电荷。另外,SoC一般有几百个引脚,这使每个I/O单元的面积受到极大的限制,随之就限制了这种高引脚数SoC中ESD保护器件的版图面积。SoC经常有多个不同的电源引脚,这会引起了电路模块之间接口电路发生不希望的ESD失效。因此,当工艺尺寸缩小进入深亚微米时,ESD问题将变得更加严重,特别是对CDM ESD放电。

为了有效保护采用纳米工艺的SoC,必须提高ESD保护器件的开启速度,以便在ESD应力损伤内部电路前快速泄放ESD电流。如果片上ESD钳位器件(NMOS)具有负的阈值电压(或者近似为0V),当IC受到ESD脉冲作用时,ESD钳位器件将处于“已开启”状态以泄放ESD电流。但是在电路正常工作时,可以使用一个附加的负偏压来关断ESD钳位器件。采用“已开启”特性,纳米CMOS工艺的超薄栅氧仍然可以被安全地保护。(www.xing528.com)

对采用多个不同电源引脚的SoC,一个能避免SoC中内部电路或接口电路失效的全片ESD保护方案非常重要。电源线的布局安排对SoC的ESD级别有着很大的影响。应该采用合适的ESD连接单元来连接芯片上不同的电源线。在ESD保护器件中,就承受ESD应力而言,SCR具有最高的面积效率。但是四层结构的SCR的开启速度一般较低,如果开启速度太慢将不能有效保护超薄栅氧的SoC。如果采用经过改进了的设计或触发电路,使SCR器件有足够快的开启速度,它将是VDD电压低于1.2V情况下SoC中ESD保护电路的最好选择,而且不会出现闩锁问题。

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