随着光刻工艺向越来越小的k值推进，促进了对各种分辨率增强技术（Res-olution-enhancement techniques，RET）的需求，包括特殊的照明条件、基于模型的OPC、亚分辨率辅助图形和交替式相移掩膜。使用这些技术的能力越来越多地与选用的特定版图设计风格相互结合在一起。有两种方式可以通过RET来优化版图设计。其中一种方式是基于下述事实：对于给定的电路，可采用的版图并不是唯一的，而是各种方式都是可能的，并且经常是根据版图的方便程度选择相应的特殊风格。正是基于版图设计风格的多样性，可以使用RET优化特定的设计。虽然对设计者来说，不同的版图之间或许没有显著的优势，但是有时表面上似乎不明显的细节对能否使用RET却有决定性的影响。这些规则一般称为推荐规则、可制造性设计、规则或者类似的术语，通常被总结为导则而不是规则。如果不遵循这些规则要求不一定就导致灾难性的失效，可能只是使特定的版图对工艺波动缺少稳定性，因此规则所规定的要求本身涉及的边界经常并不是唯一的。
下面是版图/分辨率增强之间存在相互关系的第二个情况。特定的版图根本就与工艺团队计划采用的RET不兼容，或者采用RET将导致这些版图出现不能容忍的严重的性能衰退。这些设计制约因素一般是设计团队和工艺团队之间的矛盾问题，这将构成数据预备流程的变化，下节将给出相关的实例。在以前的技术节点，RET的选择问题基本与设计团队无关。版图设计团队提供了设计后即退到幕后，而由工艺团队确定并实施RET，并且在这过程中对设计团队几乎没有反馈。在低k成像时期，这一问题不会再继续，RET的选取对版图有显著的影响[26]。3.5节将分析各种RET对版图的影响。大部分优化版图的基本原则可以通过一个简单的原理来加以理解：光刻能生成的最好图形是宽度和间距相等的一组线条图形。虽然在DRAM中出现的规模较大的线条阵列基本遵循这一原理，但是对随机逻辑，实际情况很难满足这一原理要求。(www.xing528.com)
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