pn结形成的物理过程可以通过两种方式来解释,一种是从载流子运动的角度来分析,另一种则是基于能带的角度来分析。
1.从载流子运动角度来分析
从载流子运动的角度来分析pn结的形成,需要首先掌握漂移运动和扩散运动。在没有电场作用时,半导体载流子是不规则的热运动,因而不形成电流;当有电场时,半导体中的载流子将产生定向运动,称为漂移运动。扩散运动则是由于材料内部载流子分布不均匀而引起的。
n型半导体电子为多子而空穴为少子,p型半导体中空穴为多子而电子为少子。n型半导体电子与p型半导体中相互接触时,由于它们之间存在着载流子的浓度梯度。在该浓度梯度的驱使下,n区中的电子向p区扩散,p区中的空穴向n区扩散。电子离开n区后,在n区一侧出现了由施主离子形成的正电荷区,这些施主离子由于受到周围原子和电子的相互作用力,处于稳定状态,不可移动;同理,空穴离开p区后,在p区一侧出现了由不可移动的受主离子形成的负电荷区。通常把这些由电离施主和电离受主形成的区域称为空间电荷区,又称为耗尽区或者势垒区。这些电荷形成了一个由n区指向p区的电场,我们称为内建电场。该内建电场会促使少数载流子做漂移运动,进而产生了漂移电流,其电流方向与扩散电流方向相反。所以,内建电场起到了阻碍多子扩散、促进少子漂移的作用[2]。
p型半导体和n型半导体形成之初,扩散运动强于漂移运动,使空间电荷区不断加宽,内建电场也随之增强;而这又使得漂移运动增强,阻碍空间电荷区继续变宽,最后当这两种运动达到动态平衡时,内建电场不再变化,空间电荷区的宽度稳定。当pn结达到动态平衡时,从n区向p区扩散过去多少数目的电子,同时也将从p区漂移回同样数目的电子;此情况同样适用于空穴。因此处于热平衡状态的pn结,没有电流通过,我们称此时为处于热平衡状态下的pn结[3]。图5.2所示为pn结空间电荷区和内建电场示意图。
图5.2 pn结空间电荷区和内建电场示意图(www.xing528.com)
2.从能带的角度分析pn结的形成
从能带的角度来分析pn结的形成,需要进一步强调费米能级的物理意义,也就是载流子在T>0K时,占据概率为1/2的能级。可想而知,当两个费米能级高低不同的材料接触时,必将引起电子或者空穴的移动,最终使两材料具有统一的费米能级,此时系统处于平衡状态。
图5.3a所示为n型半导体和p型半导体接触前的能带示意图;图5.3b所示为pn结能带结构示意图。由图可见,n型半导体的费米能级接近导带底部,p型半导体的费米能级接近价带顶部。当n型半导体与p型半导体接触时,电子将从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,空穴从费米能级低的p区流向n区。这样流动的结果使得EFn与n区能带一起下降,EFp与p区能带一起上升,最终使得EFn=EFp。此时,pn结费米能级统一,pn结处于热平衡状态[4]。若所用半导体材料是理想的、高纯度的、不存在界面态,则内建电压Vbi只存在pn结内部,pn结可以看做由三个区域组成:①p型电中性区;②空间电荷区,又称耗尽区;③n型电中性区[5]。
图5.3 n型和p型半导体接触前的能带示意图与pn结能带结构示意图
免责声明:以上内容源自网络,版权归原作者所有,如有侵犯您的原创版权请告知,我们将尽快删除相关内容。