1.磨光和抛光
（1）磨光 磨光主要是去除工件表面的毛刺、分模线、飞边等缺陷，得到一个大致平整光滑的表面。磨光工艺一般采用直径为100～400mm布轮，圆筒转速为1100～2500m/min。采用以氯化铁为主的抛光膏作为磨光辅料，不能干磨，应顺着一个方向磨，磨光的压力不能太大，避免磨削量过大。
（2）抛光 经过磨光的工件，再用布轮进行抛光，先用红抛光膏粗抛，再用白抛光膏进行细抛。抛光膏用量要适当，避免工件抛光时局部过热产生麻点，造成电镀层缺陷。抛光线速度不应大于2100m/min，小件抛光线速度为1100～1600m/min。抛光压力不要太大，应顺一个方向进行抛光。抛光后的工件应尽快进行下一道工序处理。
（3）滚磨光 较小的工件可以采用滚磨光，滚筒采用聚丙烯制作，转速为5r/min。磨料可以采用塑料、陶瓷、氧化铝等，并加入肥皂水、洗涤剂等作为润滑剂。磨料与工件的质量比为2∶1。滚磨光时间以工件表面大致光滑为准。
（4）滚光 经过滚磨过的工件，还需用滚筒滚光。滚光料可以用果壳、润滑剂等，时间为5～10min。
（5）振动滚光 小工件可在振动光饰机中进行，振动频率为10～50Hz，振幅为1～6mm，时间为1～4h，磨料与工件的质量比为5∶1。
（6）振动抛光 振动抛光时，振动频率为25～50Hz，振幅为3.5～6mm，时间为2～4h。磨料为氧化铝、塑料等，磨料与工件的质量比为（5～6）∶1。
2.脱脂
脱脂是镁合金电镀前处理中的一项重要工序。如果脱脂做得不彻底，就会影响镀层与基体之间的结合力或者使镀层发花。
与铝合金不同，镁合金在强碱溶液（pH值≥11）中不会受到腐蚀，可以使用适用于低碳钢的碱洗溶液，碱洗液一般包括氢氧化物、碳酸盐、磷酸盐、硅酸盐以及一些表面活性剂。镁合金碱性脱脂液的组分及工艺条件见表9-55。
表9-55 镁合金碱性脱指液的组分及工艺条件
(www.xing528.com)
3.浸蚀
酸性浸蚀的目的是去除金属表面的氧化物及腐蚀产物等，有效提高后续镀层与基体间的结合力。浸蚀液可分为含铬（六价）和无铬两类。镁合金常用酸性浸蚀液的组分及工艺条件见表9-56。
4.活化
镁合金活化的目的有两个：一个是去除酸洗后试样表面残余氧化膜；二是去除浸蚀后水洗步骤再次生成的新的氧化膜。镁合金的活化液中一般含有氟化物，这是因为在含有氟化物的溶液中，镁合金表面能够生成一层氟化镁保护膜，这层保护膜既可以阻止镁合金的再次氧化，也可以控制后续浸锌的速度，从而提高浸锌层与基体的结合力。常用活化液的组分及工艺条件见表9-57。
表9-56 镁合金常用酸性浸蚀液的组分及工艺条件
（续）
表9-57 常用活化液的组分及工艺条件
免责声明：以上内容源自网络，版权归原作者所有，如有侵犯您的原创版权请告知，我们将尽快删除相关内容。
