电镀镍的工艺分类及应用领域

为适应耐蚀性、力学性能、物理性能和装饰性等各种各样用途的需要，开发了各种类型的电镀镍溶液。生产上应用的主要电镀镍工艺如下：

（1）电镀普通镍（电镀暗镍） 镀液主要成分是硫酸镍、氯化钠、硼酸，如果用氯化镍代替氯化钠即称为瓦特镀液。低浓度的普通镀液主要用于镍-铜-镍-铬镀层体系中的预镀镍，高浓度镀液主要用于电镀厚镍或电铸镍。

（2）电镀光亮镍 在普通镀液中加入光亮剂就成为电镀光亮镍的镀液。由于电镀光亮镍可以省去传统的抛光工序，可显著地简化生产工艺，明显地提高生产率，因而是电镀镍工艺中应用最广的镀液。

（3）电镀双层镍及三层镍 双层镍是利用两层镀层之间存在较大的电势差（一般须保持在120mV以上）的特点，使电势较低的光亮镍层成为阳极而产生层间腐蚀，从而延缓向基体方向的腐蚀速度，达到电化学保护作用。在半光亮镍层上先冲击镀一薄层高硫镍，再在高硫镍上镀光亮镍层，就成为三层镍。三层镍具有比双层镍更大的电势差，因而比双层镍的耐蚀性更好。

（4）镍封闭 镍封闭工艺是在光亮镀镍溶液中选择性地加入二氧化硅、硫酸钡、二氧化钛及三氧化二铝等不溶性固体颗粒，使这些微粒与镍在阴极共沉积，这样得到的镀层就叫镍封闭镀层。镍封闭通常都在光亮镀镍后进行，在镍封闭镀层上再进行电镀铬，由于在微粒上铬不能沉积，因而就成为微孔铬，它具有很高的耐蚀性。(www.xing528.com)

（5）电镀高应力镍 在高氯化物镀液中加入铵盐或某些有机添加剂，可获得高应力的镍镀层。在高应力镍层上再镀0.25μm左右的铬镀层，由于应力的作用，就可获得均匀的微裂纹铬镀层。它具有与微孔铬同样的高耐蚀性。

（6）快速电镀镍 氨基磺酸盐镀液具有沉积速度快、镀层内应力低等特点，是理想的快速电镀镍工艺。其使用电流密度可达5～20A/dm²，若进行激烈搅拌，可达50A/dm²。该镀液主要适应于进行电铸。

（7）其他电镀镍 随着工业生产的发展，电镀镍工艺也在不断发展，目前工业上应用的工艺还有电镀黑镍工艺、电硬镀镍工艺、浸镀镍工艺、冲击镀镍工艺和复合镀镍工艺等。