【摘要】：类金刚石膜的基本成分是碳，是一种亚稳态的非晶态材料，其碳原子间的键合方式是共价键。现在已成功地利用等离子体增强CVD工艺在镁上制备非晶氢化SiC和类金刚石膜。类金刚石膜在微观下检查无腐蚀迹象。该工艺通过离子注入在金属和类金刚石膜之间产生一层碳成分逐渐变化的界面。应该说，类金刚石膜在镁合金上的应用是很有前景的，尤其是在一些特殊性能要求的服役环境，对扩展镁合金的应用有重要的意义。
类金刚石膜（Diamond-Like Carbon，DLC）是一类性质类似于金刚石膜，具有高硬度、高电阻率、良好的光学性能等，同时又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。该膜于1971年首次由Aisenberg和Chabot在室温条件下制得，随着研究的深入，人们发现类金刚石膜集多种优点于一身，是一种很有应用前景的新型薄膜材料。
类金刚石膜的基本成分是碳，是一种亚稳态的非晶态材料，其碳原子间的键合方式是共价键。由于碳源和制备方法的不同，类金刚石膜可分为含氢和不含氢两大类，前者通常采用物理或化学气相沉积的方法制备，而后者通常采用物理气相沉积制备。当然，类金刚石膜还可以采用许多不同的工艺制备，如离子注入、等离子体增强CVD工艺等。
现在已成功地利用等离子体增强CVD工艺在镁上制备非晶氢化SiC和类金刚石膜。采用阳极极化法对生成的类金刚石膜进行耐蚀性检测的研究表明：在存在NaCl的情况下，各种电位下的腐蚀电流密度降低；在含有氯化物的溶液中，腐蚀电流变大，电位产生一个较大的正偏移。类金刚石膜在微观下检查无腐蚀迹象。人们用CVD工艺在镁合金上制备具有良好润滑性能、耐蚀性、附着力以及光滑性的类金刚石碳膜，并采用甲烷和一种等离子源离子注入方法在镁上制备附着力良好的类金刚石碳膜。该工艺通过离子注入在金属和类金刚石膜之间产生一层碳成分逐渐变化的界面。(www.xing528.com)
应该说，类金刚石膜在镁合金上的应用是很有前景的，尤其是在一些特殊性能要求的服役环境，对扩展镁合金的应用有重要的意义。
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