1.扩散要求 扩散工艺要求扩散后,硅片具有下列形态:
1)表面呈咖啡色,颜色均匀。
2)表面清洁,无染色。
3)无裂痕、崩边、缺角。
4)薄层电阻在40~50Ω/□之间,单片方块电阻控制在±3Ω/□以内。
5)p-n结深0.2~0.4μm。
2.扩散前准备工作
(1)主要原料及设备
1)主要原料。如表7-7。
表7-7主要原料及其要求
注:N为英文nine(9)的第一个字母。纯度一般按多少个9来表示,例如6N,即6个9,表示纯度为99.9999%。
2)设备。有扩散炉、超净台、石英棒、石英舟、石英板、搪瓷盘、电阻率仪、四探针测试仪等设备。
(2)石英器件清洗
1)擦拭。未使用过的石英器件,首先用丙酮棉球擦拭一遍,再用酒精棉球擦拭一遍。
2)酸浸泡。戴上口罩,把石英器件放入配有氢氟酸溶液(1∶25的氢氟酸和纯水)的清洗槽中;打开氮气进气阀,让溶液轻度鼓泡,持续15min;然后关闭氮气进气阀,并把槽中的水抽到另一槽中。
3)纯水清洗。打开纯水阀,让纯水完全淹没石英器件;再关闭纯水阀,打开氮气进气阀,让溶液轻度鼓泡,持续6min;排水,充氮气,再打开纯水阀,让纯水完全淹没石英器件;重复纯水清洗过程,多次循环。用纯水清洗后,用电阻率仪测量清洗后水的电阻率,直到清洗后水的电阻率﹥2MΩ·cm为止。
(3)安装液态POCl3源瓶。这是一个重要、细致、有危险性的工作,要谨慎操作,要穿戴好防护用具(橡胶手套、口罩)。
1)安放源瓶。在扩散室,小心取出源瓶,确定进气管和出气管,进气管为长管子。将源瓶放入恒温槽,槽内有纯水,纯水量为槽容积的2/3,用纯水控制温度。
2)连接。连接好大氮、小氮、氧气管道,连接处都要缠生料带,防止漏源。此处的大氮、小氮是指流量大小不同的两根氮气管道。
3)小氮调试。液态POCl3汽化后靠氮气带入。把小氮流量设为500mL/min,轻微拧开源瓶出气阀,手可感到气泡引起的振动,慢慢拧到全开。
4)打开大氮,检查无漏源、小氮流量与设定值一致后,关闭小氮,打开大氮阀门,大氮流量设为24000~26000mL/min。
3.开机 打开扩散炉电源,启动扩散控制程序,在手动操作下缓慢升温。
4.石英管进炉
(1)安装石英管、碳化硅浆,将石英舟放到浆上,送入炉内。
(2)在160℃下保温5h,然后在420℃下保温2h,重复三次。
5.装片
(1)从传递窗取出硅片,注意观察硅片是否甩干。
(2)用真空吸笔将硅片从花篮里取出,插入石英舟内,一槽插两片,背对背,即两片非扩散面紧靠在一起。真空吸笔的吸力调到刚好能吸住硅片即可。插片时头不可伸入超净工作台内。
(3)核对数量,填写流程卡。(www.xing528.com)
(4)用石英舟叉将石英舟小心装入碳化硅桨上。
6.扩散
(1)设定扩散工艺参数。表7-8列出扩散工艺参数。
表7-8扩散工艺参数
(2)按“运行”键,开始扩散。图7-14示出扩散。
7.取舟
(1)程序运行完毕后,单击返回按钮,退回手动操作状态,打开炉门,悬臂桨自动将石英舟从扩散炉的石英管中取出。
图7-14 扩散
(2)用石英舟叉将石英舟从碳化硅桨上取下,放入搪瓷盘中,揣到净化工作台上。
(3)将下一批待扩散硅片装入扩散炉。
8.取片 用石英吸笔将硅片从石英槽内取出,放入垫了滤纸的搪瓷盘内,扩散面朝下。
9.检测
(1)用吸笔均匀取出5片硅片,待测方块电阻。
(2)用方块电阻测试仪检测。图7-15示出方块电阻仪。打开测试仪电源,预热,使“R□”、“I”、“EXCH.1”的显示灯亮。
(3)将硅片放置于测试台白线内,使针头平压在硅片上,确认四探针保持水平。
(4)将电流值调整到4.67A后,将“I”指示灯切换成“R□/P”状态。隔2h校准电流一次。
图7-15 方块电阻测试仪
(5)将读数值记录于表格中,取出硅片。
(6)记下不合格硅片数量和在炉中所处位置,将超范围硅片作返工处理,并对所处炉中的位置温度进行调整,确保方块电阻控制在所要求范围。
10.后续管理工作
(1)将合格硅片装入纸盒中。
(2)清点合格片数量,填写流程卡。
(3)将硅片和流程卡一起放入扩散传递窗出口。
11.扩散炉保温和关机
(1)暂无生产任务时,扩散炉应处于保温状态,保温温度设定为400℃。
(2)长期不用或维修时“关机”。
12.石英管的拆洗 石英管长期工作在扩散气体及高温中,工作环境恶劣,易沾染各种物质,隔一段时间就应将其拆卸下来清洗。用HF稀释浸泡,纯水漂洗,吹干,放入纸盒中备用。
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