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深入研究放置iFeature技术

时间:2023-06-17 理论教育 版权反馈
【摘要】:例如,由一个在偏移工作平面上终止的拉伸特征来创建iFeature。使用iFeature有很大的灵活性,但是需要在放置时选择附加的定位基准。另外,用户可重命名平面,使它们在放置iFeature时更容易理解。对于有些iFeature,如用扫掠特征创建的O形密封圈,可能需要相对于路径草图来定义位置。

深入研究放置iFeature技术

在前面讲解iFeature的放置时,曾经提到关于定位基准的问题,这里详细讲述一下,因为通过定位基准的辅助,用户可更加精确的放置iFeature。

1.在放置灵活性和体现设计意图之间取得平衡

精通iFeature的创建和使用后,可创建更复杂的特征。用户可决定在【创建iFeature】对话框的【定位基准】列表中包含哪些几何图元。在【定位基准】列表中,可添加用于定位iFeature的基础特征草图的参考边。包含参考边可体现更多的设计意图,但是要求iFeature的放置方法与它最初的放置方法一致。

2.为包含共享几何图元的iFeature指定定位基准

由多个共享几何图元的特征创建iFeature时,默认情况下共享图元在【定位基准】列表中只出现一次。例如,由一个在偏移工作平面上终止的拉伸特征来创建iFeature。该工作平面是从拉伸所在的草图平面偏移而来。

在【创建iFeature】对话框中,几何图元按以下方式显示:

(1)【所选特征】树中,面同时列在工作平面特征(平面1[平面])和拉伸特征(截面轮廓平面2[草图平面])的下面。

(2)在【定位基准】列表中,面只显示一次(截面轮廓平面2)。(www.xing528.com)

(3)在【定位基准】列表中选择面会使【所选特征】树中的两个面同时亮显。

在【定位基准】列表中,可在平面上单击右键并选择【独立】选项,单独列出平面。当使用iFeature时,可分别选择并放置每个平面。使用iFeature有很大的灵活性,但是需要在放置时选择附加的定位基准。另外,用户可重命名平面,使它们在放置iFeature时更容易理解。可将“平面1”重命名为“工作平面偏移面”,将“截面轮廓平面2”重命名为“草图平面”,等。

3.为包含多个草图的iFeature指定定位基准

在向【定位基准】列表添加几何图元元素时,从多个草图特征(例如放样和扫掠)创建的iFeature更为有用,下面分别讲述。

(1)放样。放样包含两个或更多独立草图平面上的草图。默认情况下,在放样特征中所选的第一个截面轮廓会在【定位基准】列表中显示。其余草图平面的位置将相对于第一个截面轮廓来定义。通过在【定位基准】列表中包含其他草图平面,可在放置iFeature时选择包含平面的位置。在【所选特征】树中选择截面轮廓,单击右键,然后选择【独立】选项。此时,单独的草图平面将列在【定位基准】列表中,当放置iFeature时,草图平面可单独放置。如果需要,可在【定位基准】列表中组合两个或多个草图平面,使它们的位置与其中一个草图平面相关联。当在列表中选择要组合的草图平面时,第一个选中的草图平面将保留在列表中。其他草图平面的位置将与第一个平面相关联。在草图平面上单击右键,然后选择【合并几何图元】选项。

(2)扫掠。如果截面轮廓和扫掠路径草图不存在关联关系,则默认情况下截面轮廓草图将在【定位基准】列表中显示。这种情况下,路径草图的位置是相对于截面轮廓定义的。要使路径草图的放置与截面轮廓草图无关,可将它添加到【定位基准】列表中。在【所选特征】树中的路径草图上单击右键,然后选择【独立】选项。对于有些iFeature,如用扫掠特征创建的O形密封圈,可能需要相对于路径草图来定义位置。在【定位基准】列表中的路径草图上单击右键,并选择【合并】选项,单击截面轮廓草图。由于路径草图是优先选择的,所以它将被列出来。

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