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锡晶须生长加速实验探究

时间:2023-06-16 理论教育 版权反馈
【摘要】:但由于原子扩散速度慢,锡晶须生长速度仍然很慢。此外,铜对锡晶须生长的影响还需要要进一步另行考虑。图7-17 纯锡样品在电迁移时阳极锡晶须的生长采用电迁移实验的方法,可以加速锡晶须的生长。由此可以测得锡晶须生长速度和体积与电流密度、温度和时间的关系。但是,首先要确定电迁移加速的锡晶须生长,与无铅钎料表面的锡晶须自生长,两者之间机理相同,加速实验才会有实际意义。

锡晶须生长加速实验探究

锡晶须生长加速实验,可以帮助预测无铅钎料层表面锡晶须生长的寿命,实验温度必须高于室温,可以提高到60°C(140°F)进行。但由于原子扩散速度慢,锡晶须生长速度仍然很慢。当温度接近100°C(212°F)时,扩散加快,但应力会随原子快速扩散也得到松驰。这样,我们遇到驱动力和动力学之间的竞争。尽管像共晶锡铜钎料那样增加铜的含量,会有助于提高锡晶须的生长,但生长速度也不会很快。此外,铜对锡晶须生长的影响还需要要进一步另行考虑。

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图7-17 纯锡样品在电迁移时阳极锡晶须的生长

采用电迁移实验的方法,可以加速锡晶须的生长。其优点在于不仅可以改变施加的电流密度(驱动力),也可以在高温(动力学)下进行实验。因此可以同时对驱动力和动力学过程进行控制。图7-17是在电迁移实验中,纯锡样品在电迁移时的阳极锡晶须的生长。通过测量锡晶须生长速度和直径,可以得到单位时间内锡晶须的体积变化,即

V=JAd(7-31)

式中J——电迁移流量

A——锡晶须横截面

dt——单位时间;

Ω——原子体积。

由此根据式(7-7)可以计算驱动生长的应力。另外,已知J,可得到

978-7-111-37218-9-Chapter07-40.jpg(www.xing528.com)

式中C=1(纯锡);

D——扩散速度;

kT——热能;

σ——阳极处的应力,假定阴极处的应力为0;

dσ/dx——锡在很短的距离dx内的应力梯度

Z∗——电迁移中扩散的锡原子的有效电荷数;

e——电子电荷;

j——电流密度;

ρ——锡在实验温度下的电阻率

为了控制阳极锡晶须生长的直径,将整个阳极锡带覆盖一层薄石英膜,再刻蚀出特定直径的小孔,施加一定电流密度后,锡晶须就可以从阳极孔处挤压生长出来。由此可以测得锡晶须生长速度和体积与电流密度、温度和时间的关系。但是,首先要确定电迁移加速的锡晶须生长,与无铅钎料表面的锡晶须自生长,两者之间机理相同,加速实验才会有实际意义。

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