中国的集成电路产业起步于20 世纪60 年代中期,1976 年,中国科学院计算机研究所研制成功1 000 万次大型电子计算机所使用的电路为中国科学院109厂研制的ECL 型电路;1986 年,电子工业部提出“七五”期间,我国集成电路技术“531”发展战略,即推进5 μm 技术,开发3 μm 技术,进行1 μm 技术科技攻关;1995 年,电子工业部提出“九五”集成电路发展战略,以市场为导向,以CAD 为突破口,产学研用相结合,以我为主,开展国际合作,强化投资;在2003 年,中国半导体占世界半导体销售额的9%,电子市场达到860 亿美元,中国成为世界第二大半导体市场,中国中高技术产品的需求成为国民经济新的增长动力。到现在,我国集成电路产业已经初具规模,形成了产品设计、芯片制造、电路封装共同发展的态势。
2014 年《国家集成电路产业发展推进纲要》发布,中国集成电路产业迎来了爆发。国家大基金的金融杠杆作用逐步显现,适应产业发展的各级地方政策环境和投融资环境基本形成。近年来,国内集成电路虽然发展迅速,但较之国外仍存在较大差距。主要表现如下:
(1)中国每年集成电路进口额巨大。2018 年进口集成电路达到3 120.6 亿美元,进出口逆差达到2 274.2 亿美元,同比增长17.47%,这说明中国集成电路产业对外依存度非常巨大。
(2)高端核心芯片、核心技术依赖进口。
(3)产业规模差距大。国内制造领域第一的制造企业,其产业规模与国际第一的制造企业相差10 倍;国内第一的设计企业与国际第一的设计企业相差3.3 倍;国内封装企业差距较小,第一名与国际第一的封装企业产业规模相差1.6 倍。
在集成电路产业中,装备起着基础性作用。集成电路产业能够持续发展,制造能力的提升和制造工艺的改进起到决定性的支撑作用。中国集成电路产业要实现在全球从跟踪走向引领的跨越,装备产业是重要环节[10]。作为集成电路装备中价值最高的光刻机,其上游关键部件,尤其是投影物镜和掩膜台等,目前基本被德国的蔡斯,日本的尼康、佳能及荷兰的阿斯麦等企业所垄断。(www.xing528.com)
光刻机分为前道光刻机、后道光刻机等。前道光刻机主要用于芯片制造,后道光刻机主要用于芯片封装。目前,我国在前道光刻机方面还严重依赖进口,国内技术还处于90 nm 光刻机的整机集成阶段,而国际最先进的EUV 光刻机已具备生产7 nm 以下制程的能力,技术差距显著。但在后道光刻机和投影光刻机方面,国内已实现量产,如上海微电子装备有限公司(以下简称上海微电子)的用于先进封装的步进投影光刻机,国内市场占有率超过80%,全球市场占有率约为40%,用于LED 制造的投影光刻机的全球市场占有率约为20%。
从各方面数据可以看出,经过这几十年的发展,中国内地集成电路产业已经呈现出越来越明显的集群特性,业已初步形成以长三角、珠三角以及以京津地区为中心的环渤海带这三个区域中心,产业集群效应凸显[11]。按照产业分工来看,中国的集成电路设计产业主要分布于长三角、珠三角以及以京津为中心的环渤海地区,芯片制造产业主要分布于长三角地区,而封装测试产业同样主要分布于长三角地区,尤其是以江苏省为主,此地区集中了全国大部分封装测试厂。
据中商产业研究院整理,2019 年中国集成电路产业销售收入为7 562.3 亿元,同比增长15.80%,其中集成电路设计业销售收入为3 063.5 亿元,同比增长21.6%,占总值的40.5%;晶圆制造业销售收入为2 149.1 亿元,同比增长18.20%,占总值的28.40%;封测业销售收入为2 349.7 亿元,同比增长7.10%,占总值的31.1%。中商产业研究院预测,2020 年中国集成电路产业销售收入有望突破9 000 亿元。
总体看来,国内装备产业整体还很弱小。2016 年我国集成电路设备投资占全球的16%,而国产设备销售额仅占全球的0.54%,国内装备产业的发展水平与需求失配。根据Gartner(高德纳咨询公司)发布的全球规模以上晶圆制造装备商的报告显示,其统计范围共有58 家装备公司,中国仅占4 席,分别是北方华创、中微半导体、盛美半导体和Mattson(2016 年被亦庄国投收购),其他分别位于日本(21 家)、欧盟(13 家)、美国(10 家)、韩国(7 家)、以色列(3 家)[12]。
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